二手 K&S 971 #9077085 待售

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K&S 971
已售出
製造商
K&S
模型
971
ID: 9077085
晶圓大小: up to 8"
Microwash station, up to 8" Handles up to 10" diagonal substrates For sawed/scribed wafers, photomask and other substrate cleaning Oscillation High pressure DI spray arm - up to 2000 psi Filtration at 0.2um Combined chamber exhaust and drain Built in safety interlocks Nitrogen dry Infrared heat lamp 115V, 50/60 Hz, 6A Missing cone.
K&S 971是為半導體制造行業設計的晶圓和掩模洗滌器。它用於在制造過程中清潔晶圓和掩模的表面,確保它們沒有微觀顆粒和汙染物。971采用機械攪拌和流體傳導材料的組合,從晶片和掩模表面去除顆粒。K&S 971利用由直流電動機提供動力的機械洗滌動作。這種電動機產生一組高達500 RPM的振蕩,振幅為0.5毫米,從而對正在加工的材料表面產生很大的機械磨損。一種綜合化學清潔設備增強了洗滌作用,該設備利用特定類型的流體分解並沖走晶片和面罩表面可能殘留的任何微觀汙染物。971還具有可調壓力和噴嘴控制功能,使用戶能夠設定精確的洗滌壓力和噴嘴角度,以達到最佳清潔動作。這樣可以確保擦洗功能足夠強大,能夠去除任何顆粒,同時不會對下面的材料造成過度磨損和損壞。K&S 971包含一個自給自足的過濾系統,能夠從洗滌液中同時去除固體和氣溶膠顆粒,從而確保液體保持清潔,任何顆粒在重新循環回清潔單元之前被清除。還有一臺材料回收機,收集和儲存在洗滌過程中從晶片和掩模中去除的任何顆粒。這種回收工具對於減少洗滌過程中產生的廢物非常重要。971還具有自動洗滌室清潔資產,用戶可以在完成一個過程後輕松快速地清潔洗滌室。這個模型沖走所有留在腔壁上的顆粒,確保在洗滌過程中不會留下顆粒。此外,K&S 971還具有廣泛的安全特性,例如防止任何液體從設備中逸出的水密封條,並保護操作員免受洗滌過程中產生的任何危險蒸氣或噴霧。總體而言,971是一種高效的洗滌器,專為半導體制造工藝而設計。它具有綜合的機械和化學作用,確保晶片和掩模的表面在洗滌過程中保持清潔,不受汙染物的汙染。此外,它的可調壓力和噴嘴控制特性、自給自足的過濾系統、材料回收單元和自動洗室機都協同工作,使洗滌性能最大化,同時也保證了操作員的安全。
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