二手 LAM RESEARCH / ONTRAK Series II #9412623 待售

LAM RESEARCH/ONTRAK Series II Wafer and Mask Scrubber是一個先進的自動化系統，旨在清潔和消除大規模的光刻面膜和晶片。該洗滌器利用最先進的機器人技術和先進的圖像識別技術來分析和處理不同的掩模和晶片特性，包括：表面地形、圖樣特征和結構特征。該過程從洗滌器掃描晶圓或掩模頂部的特殊光學元件開始，以檢測缺陷。一旦檢測到,設備就會使用自動「刷牙」工藝,將高壓清洗液流施加到晶圓或掩模表面。然後，洗滌器利用其圖像識別技術檢測任何殘留汙染物，並重復清洗過程，直到達到無汙染的結果。ONTRAK系列II晶圓和蒙版洗滌器由於其先進的機器人和圖像識別技術而提供了優於其他專業級洗滌器的性能。洗滌器還為專業人士提供了便利，因為它設計的外形小巧，便於在不同地點運輸和使用。洗滌器配有直觀的圖形用戶界面，使操作易於理解和設置。此外，洗滌器能夠為不同的光刻工藝存儲多達8種用戶可編程的清潔方法，使用戶能夠無縫地在不同配方之間切換。設備的高級聯網功能還允許用戶監視多個位置的操作。LAM RESEARCH Series II Wafer and Mask Scrubber是專業石版畫家和半導體制造商必備的工具。其強大的成像識別功能和自動化的清潔過程使洗滌器能夠以最少的精力和時間有效地清潔和消除口罩和晶片的汙染。此外,設備外形小巧且易於使用的界面使操作快速高效,而其網絡功能和存儲的清理程序允許用戶遠程訪問和管理操作。如果你正在尋找一個先進的和有效的洗滌器大規模光刻工藝，系列II晶圓和蒙版洗滌器是完美的選擇。