二手 LAM RESEARCH / ONTRAK Synergy #293606441 待售

LAM RESEARCH/ONTRAK Synergy是晶圓和掩模洗滌器，一種用於處理精細半導體晶圓的設備。它是專門為清潔晶片和掩模表面而開發和設計的，用於半導體制造設備，如光刻系統。洗滌器的設計目的是去除晶片和掩模的表面汙染，去除當用作光刻過程的一部分時可能造成缺陷和產生損失的顆粒。洗滌器由洗滌器和洗滌器室兩個主要部件組成。洗滌器是一種無損裝置，而洗滌器室有一個清潔室和一個氯化室。洗滌器由兩個反向旋轉的磨砂盤、一組振動阻尼器和正在處理的用於幹燥晶片和掩模的排氣扇組成。磨砂盤的設計目的是去除晶片表面的顆粒，而減振器則減少擦洗過程中敏感材料碎裂或開裂的風險。洗滌器室由主加工室、沖洗室和面罩清洗室組成。主工藝室設計用於清潔和拋光晶片表面，並配有排氣系統，從洗滌過程中排出廢水。沖洗室設計用於晶片的最終清洗和沖洗，從而實現可靠和一致的清潔性能。最後，口罩清洗室用於清潔口罩，采用無壓工藝，提供更好的清潔效果，減少口罩損壞的風險。此外，洗滌器還具有便於收集和回收洗滌過程中產生的廢水的特點。它還配備了先進的真空系統，使用動力頭過濾器在幹燥前從晶圓表面去除顆粒。此外,洗滌器的設計使得它能夠在不需要更換刀具、提高吞吐量和減少停機時間的情況下運行。洗滌器可支持各種晶圓尺寸,並利用經過驗證的洗滌器圓盤設計,從晶圓表面進行最佳的汙染清除。總體而言,ONTRAK Synergy晶片和掩模洗滌器為半導體加工應用提供了可靠、經濟高效的解決方案。其先進的設計和功能為晶片和口罩提供了更好的清潔性能，也為用戶提供了更好的安全性。此外，其易於收集和回收廢水的能力及其高效的過濾系統提供了可靠的保護，免受亞修復汙染和屈服損失，使其成為半導體織物的有效解決方案。