二手 NEW TECH WAVE 3600 HC #9409605 待售

NEW TECH WAVE 3600 HC是NEW TECH WAVE Inc.它是為徹底和一致的清潔抗蝕劑，蝕刻，離子映射光刻劑和蒙版擦洗應用而設計的。3600 HC設計用於去除可能影響半導體產品性能的表面汙染物和殘留物。該系統利用化學、機械和超聲波能量，確保在一個通道內進行深度清洗過程，洗滌操作次數可根據應用類型進行編程和調整。洗滌器的特點是一個雙罐單元，帶有一個耐化學的不銹鋼罐，其中包含一個特殊的洗滌液。該解決方案旨在去除晶片和掩模表面存在的化學物質和顆粒。為了提供最大的效率，洗滌解決方案可以用簡單的解決方案級控制機器進行調節。該工具還包括一個自動跟蹤資產，用於監測晶圓或掩模表面上汙染物的增長。這使得洗滌器能夠隨著表面汙染水平的變化而優化其清潔周期。NEW TECH WAVE 3600 HC包括一個自清潔攪拌器，以消散化學殘留物，確保化學物質更好地溶解，以便完全清洗。洗滌速度是可調的，允許完全控制洗滌時間和壓力，避免任何可能損壞晶片或蒙版。3600 HC包括內置觸摸面板和直觀GUI。這使用戶可以輕松設置和編程洗滌周期的參數,包括要清洗的材料的類型、清潔壓力、溶液溫度、洗滌頻率和周期持續時間。觸摸面板還提供了詳細的清潔結果,可用於實時監控清潔周期。綜上所述，NEW TECH WAVE 3600 HC是一種可靠高效的洗滌器模型。它具有自動跟蹤設備和自動清潔功能,是深層清潔應用的理想選擇。此外，觸摸面板允許簡單的編程和監控，使系統成為一個有效的和用戶友好的解決方案晶圓和蒙版擦洗。