二手 NIKON NRW-504 #9137286 待售

NIKON NRW-504 Wafer&Mask洗滌器設計用於在加工前後清洗晶片和Mask。這臺機器的設計采用了氣體和物理洗滌作用的組合，以去除晶片和掩模中的顆粒和汙染物。氣體洗滌動作使用一種控制設備，該設備被封閉在不銹鋼外殼中，並與洗滌器外殼相連。該系統以特定速率和受控溫度向洗滌器室註入調節的純化氣體流量。氣體洗滌作用可清除晶圓或掩模表面上的顆粒、灰塵和其他汙染物。物理洗滌動作使用機械刷子組件，由位於洗滌器外殼下部的步進電機驅動。這種由各種清潔刷子組成的刷子組件將在其自身軸上旋轉，並擦洗晶圓或掩模表面，以去除不需要的顆粒。可以根據需要調整旋轉速率,以確保對晶片或掩模表面施加適當且一致的洗滌作用。晶圓和遮罩滑軌以及線性傳遞元件由不銹鋼制成，具有堅硬/光滑的軸承表面。這樣可以確保所有受控運動都能提供一個平穩一致的環境操作單元。可選的線性換乘機經過設計，在從一個站到另一個站的換乘過程中提供額外的保護。氣體和物理洗滌動作結合在一起，提供一致和可靠的清潔性能。洗滌器及其組件設計為用戶友好，只需極少的指導和培訓即可操作。NRW-504 Wafer&Mask洗滌器提供了一種安全有效的清洗晶片和Mask的方法。洗滌器殼體采用單壁鋼結構，符合清潔室作業10000級要求。控制工具、機器人控制的運動和數據跟蹤功能相結合，在達到最高清潔標準時提供可靠和可重復的性能。