二手 NIKON NRW-504UV #9111289 待售

NIKON NRW-504UV Wafer&Mask Scrubber是一種用於半導體工業的自動化晶圓和Mask洗滌裝置。它旨在減少人工清潔過程的工作量和風險。NRW-504UV具有可靠和堅固的自我清潔機制，能夠有效地消除晶片和口罩表面的汙染。它自動檢測、收集和儲存汙染物，並高效清除汙染物。該設備可以監控清潔過程，能夠主動響應晶圓或掩模表面特性的變化。它還具有先進的控制系統,可以精確控制洗滌過程。NIKON NRW-504UV配備了強大的紫外線源，使得晶圓或掩模表面存在的死亡和休眠粒子可以被設備輕易探測到。它配有蒸氣軟管系統，用於清除碎片和汙染物而不損壞晶圓或面罩。該設備還能夠去除已嵌入晶圓或掩模中的表面顆粒。NRW-504UV提供出色的潤濕和清潔性能，確保汙染物迅速徹底清除。該裝置可以在不同的環境下運作，包括正常的實驗室、真空和超潔凈室條件。該設備可靠性高,操作故障率低,並且具有易於訪問的維護和校準點。NIKON NRW-504UV旨在實現安全高效的晶片和掩模擦洗,並將損壞風險降至最低。該設備旨在滿足半導體行業的需求,非常適合需要清潔、無缺陷表面的日常產品制造商。NRW-504UV是任何潔凈室和實驗室的重要和寶貴的補充,有助於確保產品質量的安全和準確標準。