二手 ROTHSE RR 6141 #9294531 待售

ROTHSE RR 6141是一個自動化的設備解決方案，設計用於半導體制造過程和晶圓掩模洗滌應用。RR 6141是一款水平安裝、自成一體、全自動的晶片掩模洗滌器，利用振蕩運動，具有三種獨立的清洗模式單面清洗、雙面清洗、多層清洗。ROTHSE RR 6141設計用於執行各種洗滌操作。首先，RR 6141可以進行單面擦洗操作，即可以在單次運行中清洗晶片和掩模的一側。其次，它可以進行雙面洗滌操作，使得它能夠在單個通道內完成晶片和掩模的兩側，最後，ROTHSE RR 6141能夠進行多層洗滌操作，使它能夠在多層晶片掩模上完成各種深度的清潔。RR 6141設計為以每分鐘2000轉的最高速度運行，提供了徹底一致的清潔性能。ROTHSE RR 6141配備了多種支持高效操作和使用的功能。該設備具有直觀的數字控制設備和用戶友好界面,可以將其精確配置為所需的清潔任務。RR 6141提供了廣泛的工藝參數，允許用戶選擇所需的參數，如振蕩運動方向、振蕩頻率、清潔周期持續時間和停留時間。ROTHSE RR 6141還裝有傳感器和監視器,以保持適當的操作並提醒用戶註意潛在的維護問題。RR 6141利用氣體管理系統不斷采樣清潔溶液並監測氧氣和臭氧的水平。設備還裝有自動檢查裝置，可掃描晶片和口罩的表面，以確保其清潔。ROTHSE RR 6141可集成到現有生產線中或作為獨立單元使用。該設備采用模塊化設計,便於重新布置和配置,以適應不斷變化的生產需求。此外，RR 6141也被評為100級，並利用合成硝酸手套和HEPA過濾器為用戶提供符合潔凈室要求的設備。總之，ROTHSE RR 6141是一種綜合高效的晶片掩模洗滌應用解決方案。該設備提供各種洗滌模式、直觀的數字控制以及廣泛的工藝參數配置。該設備還配備了自動傳感器和檢測機，以保持高效運行和保持潔凈室要求。