二手 SCHMID 352 #9124716 待售

製造商
SCHMID
模型
352
ID: 9124716
優質的: 2009
Phosphor doper Wafer thickness: 200 μm to 320 μm Capacity: 3600 Cells / h at wafer 125 x 125 mm (1.5 M/min feed) Ambient temperature: 20 - 24°C ± 2°C Humidity: 48% to 54 % ± 2 % Phosphoric acid Concentration approx: 27% Mixing ratio: 1:3 With 85% acid Consumption approx: 0.4 l/h Temperature: 34°C ± 1°C (Internal regulation) Content vaporizer approx: 3 l Content supply tank: 50 l Water inlet belt cleaner: DI water Conductance: 1 μS Temperature: 20°C ± 3°C Consumption: 380 l/h at 2 bar inlet pressure Inlet pressure: < 4 Bar Working pressure: 3 Bar Cooling water: Infeed temperature max: 17°C Consumption: >300 l/h Inlet pressure max: 5 Bar Pneumatic: Inlet pressure: 6 to 10 bar Working pressure: 6 Bar Pollution: Drying Oil free Maximum: 5 μm / 5 mg/m3 Suction Working pressure: 0.5 Bar Connection dimension: 90 mm Exhaust air approx: 100 m3/h Power supply: 3-Stages /N/PE, 400 VAC, 50 Hz, 24 VDC, 8 A / Stage, 5.5 kW 2009 vintage.
SCHMID 352晶圓和掩模洗滌器是一種多功能、高效的工具,旨在滿足高性能半導體加工部門的需求。這種晶片和掩模洗滌器利用最新的洗滌技術提供快速、準確和可靠的結果。它能夠擦洗長達152毫米的晶圓直徑和長達350毫米的掩模直徑。352提供了全方位的運動,允許對復雜結構進行擦洗。利用旋轉運動、垂直調節和可調節的洗滌速度來優化洗滌性能。這種靈活性可用於不同的洗滌任務,如清除厚厚的光刻膠層和去除顆粒而不損壞細膩的結構。這款晶片和掩模洗滌器配備了兩臺強大的SCR電機,具有可調壓力和洗滌控制功能。這樣可以確保整個洗滌過程既快速又有效。其堅固的結構和淬火效果有助於保持最高水平的清潔和精度。SCHMID 352配備了一個特殊的疏散臂和一個專利的雙面刷毛刷子,能夠對甚至笨拙的結構進行密集的擦洗。這樣做不需要手動清洗刷子,從而提高工藝速度和安全性。這種晶圓和掩模洗滌器能夠在14-44°C的大溫度範圍內工作。此外,352還配備了每小時1000升的凈水系統,使磨砂溶液保持清潔和純凈,減少化學用量和占地面積。該系統連接到閉環過濾系統,該系統可回收磨砂液並有助於減少汙染。總之,SCHMID 352晶片和掩模洗滌器是一種高效可靠的工具,具有無與倫比的洗滌性能。憑借其簡單的設計和先進的洗滌技術,它提供了快速、靈活和安全的洗滌工藝,同時降低了工藝成本和汙染。
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