二手 SSEC 300 ML Evergreen Series III #9140 待售

SSEC 300 ML Evergreen Series III是一款高性能晶圓和掩模洗滌器設備，專為當今苛刻的半導體制造工藝而設計。該系統提供了一系列先進的洗滌參數,以適應各種晶圓尺寸、材料和表面飾面。該單元由三個主要組件組成：晶片洗滌器、掩模洗滌器和晶片支架。晶圓洗滌器被設計成比其他的更積極的洗滌過程，同時盡量減少工藝時間和汙染水平。高精度面膜洗滌器的設計達到了最佳的沈積均勻性，保持了較高的清潔度和精度。晶圓支架最多可容納六個垂直堆疊的6英寸晶圓，以最大限度地提高晶圓吞吐量。晶片洗滌器包括兩級工藝，具有預洗滌和後洗滌循環，以盡量減少晶片汙染。預洗滌利用磨料漿料或清潔溶液在後洗滌循環之前清除晶片表面殘留物。後洗滌循環旨在通過提供均勻的洗滌覆蓋，進一步減少晶圓表面殘留顆粒的數量。面罩洗滌器采用單級清洗工藝，由一系列海綿、小刷子和微磨料組成，用於清除碎屑和氧化碎屑。這些海綿將附著在遮罩表面的顆粒移出，而刷子則設計成輕輕刷掉光殘留物。微磨料除去氧化和腐蝕，可減少蒙版蝕刻線寬。為了優化性能，SSEC 300ML EVERGREEN SERIES III機配備了自動晶圓和掩模洗滌站。該洗滌器站使操作員能夠對各種晶圓和掩模尺寸、材料和表面飾面進行比人工洗滌器參數更好的快速、準確的編程。自動洗滌過程還可以提高吞吐量,提高光刻的均勻性和準確性。300 ML Evergreen Series III是制造集成電路器件、光學系統和其他需要精確拋光表面且無汙染的半導體應用的理想選擇。該工具采用自動化、高精度的洗滌工藝,可提供一致的晶圓和掩模表面,無碎屑和氧化,以實現最佳的光刻均勻性、準確性和屈服。