二手 SSEC 3300 #9302848 待售

SSEC 3300是一種晶片/掩模洗滌器，旨在去除光刻過程中可能降低感光表面質量或對產量產生不利影響的顆粒、有機化合物和其他汙染物。該設備是一個單面平面（SSP）旋轉器，配置了三步工藝，使用三種不同的濕式化學和沖洗浴液去除晶圓或面膜中的汙染物。3300包括一個濕板凳，其中包括可容納多達六個300毫米晶片或掩模的主晶片/掩模加工室，一個可容納最多兩個150毫米晶片或掩模的輔助室，以及一個可容納最多兩個450mm晶片或掩模的第三個大循環容器。系統的濕式板凳還包括升降機構和蒸汽發生器，以及溫度和壓力傳感器。晶片/蒙版洗滌過程包括以下三個步驟：洗滌前、洗滌後和洗滌後。在預沖洗步驟中，首先將晶片/掩模浸入超純水中，以去除晶片/掩模表面的顆粒和有機化合物。之後，晶片/掩模在溶劑等半水性、化學基溶液中洗滌，乳化並去除晶片/掩模中的顆粒、有機化合物和其他汙染物。最後，晶片/面膜在第二個超純凈水浴中沖洗，去除殘留的汙染物。SSEC 3300還具有強大的空氣傳導循環單元,有助於確保腔室中的溶液始終處於運動狀態並保持溫度一致。這有助於增加晶片/掩模擦洗過程。此外，該機還包括自動晶片/掩模裝卸工具，提高晶片/掩模洗滌過程的效率。該資產易於操作,可根據任何特定應用程序的特定擦洗需求進行定制。其符合人體工程學的設計也有助於提高操作員的舒適度和減少疲勞。最後，3300由耐腐蝕材料構成，因此可以承受光刻工藝的惡劣腐蝕環境。