二手 SSEC 3300 #9308967 待售

SSEC 3300
製造商
SSEC
模型
3300
ID: 9308967
Single wafer spray cleaning system With HPC.
SSEC 3300是由Semes, Inc.開發的自動化晶片和掩模洗滌器,提供異常純凈、無塵的基材和掩模。洗滌器使用高壓、電離和過濾的水來去除半導體器件生產產生的表面汙染和材料積聚。三級清洗過程包括一個振蕩噴霧棒、一個真空滾筒和一個旋轉輔助裝置。振蕩噴霧棒產生均勻的水壓和明顯的噴霧模式,有助於在清潔過程的第一階段懸浮並迅速清除細小的粉塵顆粒和任何其他顆粒殘留物。使用強烈的噴霧模式和可調節的水壓設置,3300可以有效地一次清理150個晶圓。第二階段的洗滌利用可調節的真空輥來仔細清除晶圓表面上殘留的任何殘留物。滾筒的設計使表面保持清潔,而不會有顆粒或灰塵粘在上面。刷子也可用於可能需要額外清潔的更困難的顆粒。最後,洗滌的第三個階段是使用自旋輔助來分解和提升任何頑固的微粒堆積。旋轉輔助可以在可變速度下使用,以消除困難的汙染.它還保證清潔劑的均勻分布或清洗在清洗過的晶片上。洗滌器的設計是使用由電阻表控制的電導率範圍內的線水、過濾水和電離水。SSEC 3300非常適合擦洗在生產過程中暴露於空氣中顆粒、灰塵和處理不當汙染的晶片和口罩。洗滌器設計方便操作,維護簡單,保證清潔精度和最大性能。它配備了自動循環計時器、低水監測功能和可調節的手動沖洗系統,對清潔過程提供了更大的控制。
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