二手 SSEC M3302 #9229623 待售
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ID: 9229623
晶圓大小: 6"
優質的: 2011
Wafer cleaning system, 6"
Designed for isopropyl alcohol (IPA)
N-Methylpyrrolidone (NMP)
Pipes: Ammonia and hydrogen peroxide
Modules:
Loading module
Unloading module
Processing module
Drying module
Processing plates in 3-stages:
Processing in an alkaline solution of caustic potassium
Processing in stream of deionized water
Drying in stream of nitrogen
Time of one cycle of processing a plate: 45-60s
Centrifuge rotor speed:
Treatment in alkali + washing deionized water: 30-300 RPM
Drying: 2500-3500 rpm
Accessories:
ACER Monitor
Processor block
Fastening for monitor and keyboard
Mouse
Keyboard
Power consumption: 208 V, 6.0 kVA, 3-Phase, 60 Hz
2011 vintage.
SSEC M3302是一種高性能晶圓和掩模洗滌器。這臺機器的設計是為了準確有效地去除半導體晶片和光掩模基板上的表面顆粒。SSEC M 3302利用高壓射流和真空萃取的組合，能夠提供卓越的清潔效果。機箱完全由不銹鋼制成，以抵抗化學物質，並便於清洗和維護。M3302配備了變速輸送機，可以很容易地調整，以適應不同類型的晶圓和光掩模基板。這樣,無論材料類型如何,都可以實現一致的清潔過程。在清洗過程中，M 3302利用刷洗和高壓噴射水或化學劑的組合來輻照表面微粒。使用這種方法，SSEC M3302能夠為最困難的清潔室應用程序提供徹底的清潔。SSEC M 3302配有可調流量閥，用於精確控制過程中使用的清潔介質濃度。為了保證最佳的質量結果，流量是可調的，以保持清潔介質與晶圓表面面積的一致比例被清洗。此外,對於希望在苛刻和軟清潔解決方案之間切換的操作員,M3302提供了預編程設置。這樣,從一個清潔解決方案到另一個清潔解決方案,可以快速、輕松、安全地進行操作,而無需手動調整設置。為了進一步確保高質量的結果，M 3302配備了動態振動檢測系統，旨在檢測清潔過程中的任何異常振動。如果檢測到振動,機器將立即關閉,以防止晶圓或光掩模受到任何損壞。SSEC M3302旨在提供一種快速高效的方式來清潔半導體晶片和光掩模基板。SSEC M 3302利用對其清潔溶液的精確控制以及強大的刷牙和高壓噴射系統,即使在最堅韌的清潔空間應用中也能確保質量清潔。此外，憑借其可調的流速和預編程設置，這臺機器提供了一種快速簡便的多種方法清洗多種基板的方法。
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