二手 SSEC M3302 #9236399 待售
網址複製成功！
單擊可縮放
ID: 9236399
優質的: 2005
Single wafer etcher
Main protector interrupt rating: 10,000 Amps
Power supply: 208 VAC, 3 Phase, 60 Hz, 30 A
2005 vintage.
SSEC M3302晶片和掩模洗滌器是用於半導體制造的晶片和光掩模的精密清洗設備。它被設計為提供高洗滌性能的同時增加吞吐量和最小化磨損損失。SSEC M 3302晶片和掩模洗滌器采用工業級、多合一的設計,采用尖端技術,旨在跟上當今半導體市場的需求。它配備了四個洗滌模塊，每個模塊具有三個洗滌器，具有可調速度和功能，允許廣泛的洗滌速度和模式。它還具有一個可編程的洗滌盒芯，允許快速的設置時間，精確的控制，以及高洗滌效率。M3302晶片和掩模洗滌器的主要部件包括除塵除粒裝置、洗滌站、精礦輸送設備、精礦管理系統、光掩模保護裝置、自動晶片處理機。除塵和除粒裝置可過濾尺寸小於0.003微米的顆粒，以確保在洗滌前清除所有不需要的碎片。擦洗站由三個擦洗頭組成，可在任何給定時間擦洗多達35個晶片。此外,還可以調整刷子壓力,以確保洗滌一致性的一致水平。精礦輸送工具的設計既準確又可靠。它配備了超聲波精礦資產，無論晶圓或光掩模材料如何，都能提供卓越的清潔性能，不會浪費或汙染基材。此外,精礦管理模型可確保為每個應用程序提供正確數量的精礦。光掩模保護設備通過使用有助於在擦洗過程中保護光掩模的電磁屏蔽過程，確保在擦洗過程中避免任何異物或棒顆粒。最後,自動晶片處理系統提高了吞吐量和可靠性,最大程度地降低了在手動處理過程中可能發生晶片劃痕的風險。必須註意的是，M 3302晶片和面罩洗滌器必須在潔凈室環境中處理，以確保最大限度的清潔和防止汙染。此外，還必須定期維護設備，因為清潔不當會降低洗滌效率。
還沒有評論