二手 TEKNEK CM80600RLF3 #9180564 待售

TEKNEK CM80600RLF3 Wafer&Mask Scrubber是一種革命性的半導體晶圓制造清潔解決方案。利用先進的洗滌技術，可以快速有效地清除晶片和掩模中的顆粒和殘留物。CM80600RLF3設計用於在任何環境中工作,還可以通過不到兩分鐘的清潔周期來減少生產停機時間。TEKNEK CM80600RLF3使用兩個位置緊密的熱空氣噴射器操作，提供一股熱氣流，用於均勻的顆粒去除。噴嘴配置性強，噴嘴方向和空氣溫度可調節。這樣可以確保熱空氣的爆炸直接針對任何顆粒，使其更容易清除。洗滌器還設有集成噴嘴旋轉裝置，可以水平移動45度，垂直移動30度，提供最佳的清洗角度。由於其強大的吸力系統，CM80600RLF3可以快速而精確地收集所有的顆粒和殘留物。系統過濾出小至0.2微米的顆粒，並具有可調的羽化速度，讓使用者精確控制吸力強度。吸力系統也是可調的，使用戶可以為任何種類的任務設定正確的吸力。除了清潔外，TEKNEK CM80600RLF3允許用戶在清洗後快速、精確地「調整」口罩。通過利用噴嘴旋轉的便利性，用戶可以調整上、下、左、右方向的蒙版設置。它也可以作為進、出晶片或掩模的粒子計數器，允許在制造過程中完全可追溯。CM80600RLF3 Wafer&Mask洗滌器設計高效、可靠且用途廣泛。其先進的技術使其成為半導體晶圓制造的強大清潔解決方案，其可擴展性允許將來根據需要進行升級。TEKNEK CM80600RLF3具有快速的清潔周期和精確的清潔能力,一定能為任何晶圓和掩模制造設施帶來更高的效率和成本效益。