二手 TEL / TOKYO ELECTRON Cellesta #67641 待售
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已售出
ID: 67641
晶圓大小: 12"
Wafer clean tool, 12", 8 SVOS and 4 Spin
Includes:
Platform
SC1 Unit
SC2 Unit
DHF (1:10) Unit
O3 Cleaner
(Qty 4) SWC Spin Unit
(Qty 8) SVOS Unit
CO2 Injection Unit
03 Generator with O3 Killer
SC1 Concentration Monitor
SC2 Concentration Monitor
DHF (1:10) Concentration Monitor
(Qty 2) N2 Flow Controller.
TEL/TOKYO ELECTRON Cellesta是一種晶圓和掩模洗滌器,專註於對半導體工業中使用的光掩模和晶圓進行精確可靠的清洗。它在清洗晶片方面具有卓越的速度和效率。TEL Cellesta有四種有效清潔廣泛光掩模的型號,包括石英、光學平面、石英和玻璃。TOKYO ELECTRON Cellesta使用濕蝕刻,一種用氟化氫等溶液清潔面膜和晶圓表面的工藝。濕蝕刻過程有助於去除可能導致光掩模缺陷的顆粒和汙染物。它確保晶片和口罩上的打印完美無瑕,同時保持最終產品的質量。Cellesta使用三個階段的過程來確保正確的清潔。第一步,化學洗滌器準備晶片表面接受蝕刻溶液。這有助於從表面釋放所有汙染物,然後為第二步,溫和的濕蝕做好準備。第二步,用精確均勻的噴嘴,將蝕刻溶液噴灑到晶片表面。這有助於溶解晶片中的顆粒、汙染物和有機殘留物,而不會損害其化學成分或敏感的光學特性。第三步,TEL/TOKYO ELECTRON Cellesta通過使用高能束蒸發蝕刻溶液來實現幹燥過程。TEL Cellesta還有一個額外的脫氧模塊,利用紫外線輻射減少掩模和晶圓表面上的殘留汙染物。這有助於創建更好的蝕刻解決方案並減少清潔時間。此外,高科技控制系統有助於盡量減少汙染,跟蹤蝕刻溶液的化學用途,盡量減少浪費和成本。總體而言,TOKYO ELECTRON Cellesta是一種高效的晶片和掩模洗滌器,有助於以最精確的方式清潔光掩模和晶片。它有助於維持最終產品的化學成分和光學特性。
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