二手 TEL / TOKYO ELECTRON Cellesta+ #9182405 待售

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圖為 已使用的 TEL / TOKYO ELECTRON Cellesta+ 待售
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已售出
晶片&光罩清洗機
製造商
TEL / TOKYO ELECTRON
模型
Cellesta+
ID: 9182405
晶圓大小: 12"
優質的: 2011
Single wafer processing system, 12" Application used: FEOL Chamber 2-1: Process: SC1 Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg) Spin rotation: 1000 rpm with IPA(190ml/min,25deg) Chuck type: Mechanical chuck Chamber 2-2: Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg) Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg) Chuck type: Mechanical chuck Chamber 2-3: Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg) Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg) Chuck type: Mechanical chuck Chamber 2-4: Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg) Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg) Chuck type: Mechanical chuck Chamber 2-5: Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg) Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg) Chuck type: Mechanical chuck Chamber 2-6: Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg) Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg) Chuck type: Mechanical chuck Chamber 2-7: Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg) Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg) Chuck type: Mechanical chuck Chamber 2-8: Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg) Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg) Chuck type: Mechanical chuck Chamber 2-9: Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg) Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg) Chuck type: Mechanical chuck Chamber 2-10: Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg) Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg) Chuck type: Mechanical chuck Chamber 2-11: Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg) Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg) Chuck type: Mechanical chuck Chamber 2-12: Chemical: NH4OH/DIW(1:500)(1000ml/min,60deg) Spin rotation: 1000 rpm With IPA(190ml/min,25deg) Chuck type: Mechanical chuck Currently stored in cleanroom 2011 vintage.
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TEL/TOKYO ELECTRON Cellesta+是一款頂級的晶圓和掩模洗滌器，專為高精度半導體晶圓生產而設計。強大的洗滌機構進行徹底清洗，不會對晶片表面造成任何損壞或汙染，而先進的清洗算法則適應不同的技術，提供可靠、一致的清洗過程。TEL Cellesta+配備了高性能的除塵器，利用強大的氣流進行高效的除塵過程。它既能處理絕緣子矽（SOI）晶片，又能處理直徑達8英寸的散裝晶片。晶片外殼內部有一個清潔平臺，由工業級洗滌刷和增加清潔表面與晶片表面接觸面積的音頻振動噴嘴組成。這種結合的技術創造了高效的清潔操作,具有最小的延遲和較低的運營成本。TOKYO ELECTRON Cellesta+還擁有集成視覺系統和獨立光源進行無縫表面檢查。它可以檢測到表面損壞、汙染、微機架、礦坑和其他潛在的生產問題,然後提醒用戶需要解決的任何問題。這種實時反饋有助於確保晶圓質量在整個生產過程中得到維護。洗滌器是環保的，是由一個強大的安全系統支持。它設計用於在停電時自動關閉,並提供低噪音操作。此外,它的高端控制單元還提供遠程命令和錯誤診斷,從而能夠有效地排除故障。總體而言,Cellesta+提供卓越的晶圓清潔、表面視覺和灰塵提取功能,使其成為先進晶圓生產的理想解決方案。
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