二手 ULTRA-T EQUIPMENT / UTE PSC 122M #9301030 待售

ID: 9301030
Photomask substrate cleaner.
ULTRA-T EQUIPMENT/UTE PSC 122M Wafer&Mask Scrubber是一種多功能設備,設計用於半導體制造過程中晶圓和Mask的精密清潔。該機器具有高通量的自動化設備,能夠同時快速擦洗最多6個300 mm晶片或口罩,從而獲得卓越的清潔效果。洗滌過程在一個臥式機櫃中進行,該機櫃在舒適、符合人體工程學要求的環境中安全地固定晶片或面罩。該單元配備了可調節的刷高、振動頻率和溫度範圍,允許精細控制洗滌參數。內置的空氣幕有助於防止空氣中的顆粒進入櫥櫃,並為晶圓和口罩提供更好的清潔環境。擦洗過程由控制系統管理,該系統可自動執行操作,包括機器循環、擦刷速度、溫度和觸摸計數。此外,它還允許對不同的清潔周期進行編程,以滿足晶圓和掩模制造過程所需的特定清潔參數。用戶友好的界面、內置內存和可編程循環功能使操作員在需要時可以方便地快速調整機器的設置和參數設置。該單元還設有內置的監控報警機,可以用各種參數和閾值進行編程,包括晶圓溫度、刷壓、振動頻率和循環時間。這些參數可以輕松調整,以優化洗滌工藝,防止任何潛在的安全問題。UTE PSC 122M Wafer&Mask Scrubber是為了滿足最苛刻的半導體制造要求而設計的,是精確高效的晶圓和Mask洗滌的理想選擇。先進的設計、高通量工具和強大的功能使其成為任何現代化生產設施的絕佳選擇。
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