二手 ULTRA-T EQUIPMENT / UTE SWC 111M #9196279 待售

ID: 9196279
Sawed wafer cleaner Photo mask Substrate High pressure DI water cleaner: Sawed / Scribe wafers or masks Microprocessor control Oscillating high pressure: 2500 Psi wash With filtration 0.2 u Variable spin speed dry cycle With N2 assist CO2 Re ionizing 4 x 4" chuck Bowl diameter: 17.5".
ULTRA-T EQUIPMENT/UTE SWC 111M是晶圓和掩模洗滌器。這款洗滌器設計用於6「至8」晶片和口罩的洗滌和清洗。它包括高功率的雙軸洗滌能力,用於清潔晶圓和掩模表面的灰塵和顆粒。洗滌器配有符合人體工程學的懸掛式手柄臂,可調節,確保使用舒適。它還具有低重心,以確保在洗滌過程中良好的平衡和穩定性。它采用封裝泵設計,采用獨特的封閉式軸承設備,防止泄漏並提供更平穩的操作。洗滌頭配備了可調節的速度,以考慮晶片或面罩的大小和所使用的磨料的類型。調整範圍為0-30 RPM。也有增加多功能性的反向功能,允許從晶圓或掩模的兩側清除碎片。洗滌頭的速度可通過變速前向和反向開關調節。旋轉墊存儲系統旨在確保有效清潔。墊片牢固地固定在適當的位置,以便在洗滌過程中穩定地流動磨料,並且旋轉可以快速方便地進行維護。該產品還采用微處理器控制,便於自動化和高效利用時間和精力。UTE SWC111M包括符合UL 567標準要求的綜合安全聯鎖單元。這臺機器防止在發生內部故障時進行任何進一步的操作,保護操作員和洗滌設備。其他安全功能包括一個維護鑰匙,用於鎖定未經授權的人員,以及一個LED指示燈,用於顯示操作員洗滌頭所在的方向。ULTRA-T EQUIPMENT SWC-111M是一種可靠高效的洗滌器,適用於多種應用。它是一種強大、高效的產品,可幫助減少清潔時間並提高最終產品的質量。憑借其可調的速度和符合人體工程學的設計,該產品既用戶友好又可靠。
還沒有評論