二手 ULTRATECH PC 602 #164140 待售
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已售出
ID: 164140
Wafer photomask plate cleaner
Specifications:
Uses high pressure jets to effectively clean particles from plates
High Pressure Pump Option
Brush Option
(1) 5" Chuck (Installed)
(1) 4" Chuck
(2) 3" Chucks
The brush unit is missing a belt in it
The unit has a broken switch on the controller
As is.
ULTRATECH PC 602是一種晶圓和掩模洗滌器,設計用於清潔和拋光半導體生產中使用的晶圓和掩模。它的設計既可靠又符合成本效益。PC 602專為大批量生產而設計,具有廣泛的產品配置,旨在滿足不同的客戶需求。ULTRATECH PC 602具有堅固耐用的不銹鋼洗滌室,適用於大批量生產環境中的重型洗滌任務。洗滌室配有兩軸晶片/面罩清潔設備,提供徹底、精確的清潔。這種雙軸系統支持晶片和掩模的單面和雙面清洗。此外,洗滌室容納了廣泛的晶圓和掩模尺寸,包括1-3/8英寸、1-7/8英寸和2英寸晶圓。洗滌室配有先進的PC 602可編程過程控制單元(PPCS),可快速設置和輕松維護洗滌條件。PPCS機器采用觸摸屏控制面板,具有各種自動和手動操作的洗滌參數設置。這些參數允許精確控制洗滌周期,並確保可重復、高質量的結果。ULTRATECH PC 602專為方便安裝在幹式工作臺或引擎蓋上而設計。它由230V的60Hz電動機提供動力,並具有進氣和排氣工具,以確保最佳的洗滌氣氛。此外,該裝置還配備了一個兩加侖的廢物容器,便於清洗後進行高效清理,並確保不會將危險化學品釋放到空氣或環境中。PC 602是一款可靠、耐用、經濟實惠的晶圓和掩模洗滌器,適用於大批量生產環境。其先進的洗滌資產確保了徹底和精確的清洗,其PPCS模型提供了對洗滌周期的精確控制,以獲得一致的、可重復的結果。它易於安裝和維護,使其成為任何尋求可靠晶片和掩模洗滌器的人的理想選擇。
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