二手 ARTEC Eva Lite #9253485 待售

ARTEC Eva Lite是一種晶圓步進器，為光掩模和納米加工市場提供精確的對齊方式。它旨在為光刻、數字光刻和高級蒙版中的光掩模對準和納米印刷品光刻要求提供經濟高效且可靠的解決方案。Eva Lite具有高度可配置性,並為經濟高效的光掩碼對齊提供了最佳解決方案。ARTEC Eva Lite中的「Eva」代表「Electronic Visual Alignment」,它基於先進、用戶友好的軟件平臺。該平臺為用戶提供了快速輕松的模式配準和掩模對準，使得Eva Lite適合要求苛刻的納米制造和光掩模應用。ARTEC Eva Lite具有剛性prober結構,具有高精度和可重復性。它還帶有一個高精度的光學窗口，它提供了一個精確的觀察對準過程上的prober。Eva Lite高度可配置,可為用戶提供多種不同的對齊方式和光學掩碼。它還提供了一個可配置的曝光系統,允許用戶根據工作要求選擇適當的曝光設置。ARTEC Eva Lite提供高達4.2英寸晶圓尺寸的步進能力。其最大跨步精度為3.0 μ m，使用戶能夠實現其圖案和口罩的高精度對齊。Eva Lite具有高速自動校準功能,可自動校正和調整蒙版對準和曝光設置。它有一個四軸系統來提供高分辨率的掩模對準，並且包含EFEM軌跡以實現最大的步長和時間優化。ARTEC Eva Lite還有一套板載信號發生器，用於高帶寬模式配準，進一步提高了掩碼對準過程的準確性。為了確保可重復的準確性，Eva Lite擁有一個集成的嵌入式內存系統，允許用戶存儲他們以前的結果設置，並在不同運行之間比較結果。它還配備了一個全面的過程控制界面，允許用戶輕松管理工作流並確保可重復的結果。此外,ARTEC Eva Lite經SEMI®認證,旨在滿足嚴格的行業標準。總體而言，Eva Lite是一種高度可靠和經濟高效的晶圓步進器，旨在為光掩模和納米制造市場提供精確的對齊方式。其多種特性和可配置性使其成為生產和研究應用的理想解決方案。