二手 ASML AT-605 #9379125 待售

ASML AT-605是一種晶片步進器，使用先進的掃描狹縫投影對準設備，以確保在使用光刻技術定義特征時，半導體晶片被精確曝光。該系統由一個由電動執行器固定到位的5級可移動掩模和一個照亮、對準和暴露晶片表面的精密光學單元組成。該機器設計為在精確的公差範圍內提供整個半導體晶片的精確、快速和可重復的曝光。AT-605在石英面罩上具有95mm x 95mm的精密鍍鉻,並具有0.2微米的分度孔徑精度。投影光學工具提供0.4微米的映射精度，保持公差0.22微米。該資產可以達到每小時高達1300萬晶圓的晶圓吞吐量，使其成為一種非常有效和高效的生產工具。ASML AT-605包含一個圖像捕獲模型,該模型能夠快速、精確地對齊晶圓表面。該設備由兩個CCD攝像機、一個激光對準光束和一個投影成像系統組成。CCD照相機捕捉晶片表面的圖像，而激光對準光束則用來監視晶片位置的變化。這樣可以確保晶片在正確的方向上精確暴露。然後投影成像單元將曝光的圖像映射到掩模上。該機配備了一系列設計直觀、用戶友好的功能。其中包括圖形用戶界面、自動掩碼居中功能以及可編程聚焦和曝光控制。該工具還支持數據輸入,例如材料厚度、曝光持續時間和曝光指數。AT-605提供了一個操作資產的便利，自動組裝和對齊。該模型還提供了各種光刻模型的訪問權限，包括任何時候最多五種。最後，ASML AT-605具有高度的通用性，因為它可以用來處理各種各樣的晶圓幾何形狀，從正方形到圓形和不規則形狀。