二手 ASML PAS 2500 / 40 #138919 待售

ASML PAS 2500 / 40
ID: 138919
晶圓大小: 5"
Stepper, 5" Operator training: No PEP 2 (Color graphics): Yes PEP 1/3/4: No SECS (I/II): No SECS Job creator: No Single reticle SMIF: No Matching manager: No Extended file system (MEP): No Focus enhancement package: No Line scan: No Dose control: No Reticle error correction: No Throughput enhancement: No Batch status light: No Reticle carrier identification: No Extended power supply: No 88 um error detection: No RICO Verification: No Chuck spot detection: No Wafer track interface: Yes Wafer tilt monitor: Yes Mechanical / electrical / options: Interface: SVG 88 Stamp drive type: Non Stamp foot type: Clean Stamp POU filter: Yes Cyber: SSSD Air shower (OEPS): No P-Chuck: MIII P-Chuck top flat finder: No Microscope: Adjustable Lamp HG: 450W Alignment PCBD: 4022.430.00900 Analog PCBD in VME: MIOS1 HDD: Solid state TCU: No HCU: No Ionizer: No Box 1: FESTO Box 2: FESTO Box 3: FESTO Box 4: FESTO Box 5: FESTO Software: 8.1.0 Optical performance: Uniformity: 2.5 Matching X magnification: 168 Matching Y magnification: 176 UDOF @ 0.7 micron status Q4-2008: 2.4 Astigmatism noticed: No Focus stability: Yes Currently de-installed.
ASML PAS 2500/40是為高精度光刻應用而設計的高端晶圓步進器。該設備能夠生產精密最小線寬為0.35微米的集成電路制造光掩模。它還提供高吞吐量,最大字段大小可達254 mm。該系統由兩軸機械級驅動,使16「或24」晶圓的運動高度精確。它具有獲得專利的焦點控制單元,可在整個查看區域中準確地保持統一的焦點和字段大小。該機還具有真空投影工具,可提高分辨率,減少圖像像差。該資產的光是使用氟化KrF準分子激光源產生的。激光源能夠產生248nm的波長,脈沖重復頻率高達60Hz,能量輸出高達100mJ/pulse。這使模型能夠準確、精確地暴露最小的陣列,而不會損壞它們。該設備還提供適合敏感應用的低工作溫度和高熱穩定性。其真空投射室可確保高溫穩定性,將晶圓溫度保持在0.3 °C ±。為了用戶控制和校準,系統提供了基於Web的計算機用戶界面。這允許用戶輕松輸入設計數據,調整模式布局,調整設置,下載數據,檢查設備狀態。它還包括視圖控制、晶圓映射、斑點控制等多種遠程操作功能。最後,ASML PAS 2500/40能夠產生最小線寬為0.35微米、最大場尺寸為254毫米的IC和確保高溫穩定性的真空投影機。其KrF準分子激光器提供248nm的波長和高達100mJ/pulse的高能量輸出,確保高精度曝光而不會損壞圖樣。該工具還提供了基於Web的計算機用戶界面,便於操作和遠程控制多個參數。PAS 2500/40是高精度光刻應用的理想選擇。
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