二手 ASML PAS 2500 / 40 #138919 待售
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ID: 138919
晶圓大小: 5"
Stepper, 5"
Operator training: No
PEP 2 (Color graphics): Yes
PEP 1/3/4: No
SECS (I/II): No
SECS Job creator: No
Single reticle SMIF: No
Matching manager: No
Extended file system (MEP): No
Focus enhancement package: No
Line scan: No
Dose control: No
Reticle error correction: No
Throughput enhancement: No
Batch status light: No
Reticle carrier identification: No
Extended power supply: No
88 um error detection: No
RICO Verification: No
Chuck spot detection: No
Wafer track interface: Yes
Wafer tilt monitor: Yes
Mechanical / electrical / options:
Interface: SVG 88
Stamp drive type: Non
Stamp foot type: Clean
Stamp POU filter: Yes
Cyber: SSSD
Air shower (OEPS): No
P-Chuck: MIII
P-Chuck top flat finder: No
Microscope: Adjustable
Lamp HG: 450W
Alignment PCBD: 4022.430.00900
Analog PCBD in VME: MIOS1
HDD: Solid state
TCU: No
HCU: No
Ionizer: No
Box 1: FESTO
Box 2: FESTO
Box 3: FESTO
Box 4: FESTO
Box 5: FESTO
Software: 8.1.0
Optical performance:
Uniformity: 2.5
Matching X magnification: 168
Matching Y magnification: 176
UDOF @ 0.7 micron status Q4-2008: 2.4
Astigmatism noticed: No
Focus stability: Yes
Currently de-installed.
ASML PAS 2500/40是為高精度光刻應用而設計的高端晶圓步進器。該設備能夠生產精密最小線寬為0.35微米的集成電路制造光掩模。它還提供高吞吐量,最大字段大小可達254 mm。該系統由兩軸機械級驅動,使16「或24」晶圓的運動高度精確。它具有獲得專利的焦點控制單元,可在整個查看區域中準確地保持統一的焦點和字段大小。該機還具有真空投影工具,可提高分辨率,減少圖像像差。該資產的光是使用氟化KrF準分子激光源產生的。激光源能夠產生248nm的波長,脈沖重復頻率高達60Hz,能量輸出高達100mJ/pulse。這使模型能夠準確、精確地暴露最小的陣列,而不會損壞它們。該設備還提供適合敏感應用的低工作溫度和高熱穩定性。其真空投射室可確保高溫穩定性,將晶圓溫度保持在0.3 °C ±。為了用戶控制和校準,系統提供了基於Web的計算機用戶界面。這允許用戶輕松輸入設計數據,調整模式布局,調整設置,下載數據,檢查設備狀態。它還包括視圖控制、晶圓映射、斑點控制等多種遠程操作功能。最後,ASML PAS 2500/40能夠產生最小線寬為0.35微米、最大場尺寸為254毫米的IC和確保高溫穩定性的真空投影機。其KrF準分子激光器提供248nm的波長和高達100mJ/pulse的高能量輸出,確保高精度曝光而不會損壞圖樣。該工具還提供了基於Web的計算機用戶界面,便於操作和遠程控制多個參數。PAS 2500/40是高精度光刻應用的理想選擇。
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