二手 ASML PAS 2500 / 40 #9027711 待售

ASML PAS 2500/40是通常用於半導體制造過程的晶圓步進器。它是一個先進的步驟和重復設備，是ASML Photomask和Reticle （P&R）蒙版生產組合的一部分。此工具旨在提高口罩生產的生產率和產量,並幫助制造場所滿足對較小設備尺寸和更快周期時間的需求。ASML PAS 2500/40利用四個光學系統、雙面掩模級、暗場成像能力和模式發生器來提供所需的精度和吞吐量。平臺的雙面晶片步進器設計為支援4英寸和8英寸的平臺，讓使用者即使是最複雜的口罩也能輕松處理。該系統能夠制作100萬個陣列,分辨率為50 nm。PAS 2500/40具有高級功能,包括掩模檢查單元、超高精度基板級和一系列復雜的軟件工具。它還具有創新的照明機器，旨在提高照明的均勻性，提供更大的聚焦深度和提高產量。該工具還提供快速掃描速度，每小時最多25個晶圓。PAS 2500/40是一種可靠的工具,缺陷率非常低,能夠創建具有最小毛刺且無失真的高質量掩碼。它是一個環境友好型解決方案，獲得了RoHS的批準，大大減少了其環境足跡。此晶片步進器提供了一個高效的端到端生產過程,從掩模加載到基板卸載,為用戶提供了最大的正常運行時間並降低了運營成本。此外,它的直觀軟件使用戶能夠快速設置和監視其流程,而集成的工作流有助於提高生產效率並更快地扭轉項目。總體而言,ASML PAS 2500/40為掩模生產提供一站式解決方案,是半導體制造商必不可少的工具。它旨在提高產量，降低成本，提高制造效率和質量。