二手 ASML PAS 2500 / 40 #9234700 待售

ASML PAS 2500/40是一種晶片步進器，用於在半導體晶片上對光刻膠薄層進行精確圖樣繪制。該機能夠實現+/-15nm的精度和5nm的橫向分辨率,非常適合前沿光刻應用。ASML PAS 2500/40利用高度自動化的專有照明設備和先進的光學器件來生成其模式。該系統采用投影式照明裝置，采用寬帶、高功率光源和高NA透鏡，向晶片精確地傳遞相幹光束。光束通過分束器和光學器件定向,以精確繪制晶圓的圖案。該機還具有ASML高效的Advancedzoom模式，可優化曝光區域的照明場。這保證了光照均勻，適合晶片的光敏層。它還有助於提高準確性、可重復性和生產率,因為無論基板尺寸如何,圖像均勻性都將最大化。為了確保精確的光刻結果，PAS 2500/40還具有先進的對準和校準能力。該裝置采用先進的晶片對準、射擊對準和數字曝光過程控制機。這些特性共同設計為確保每個模式都能準確創建，並且晶圓可以很容易地從一個曝光站轉移到另一個曝光站。該工具可以靈活地暴露各種具有各種暴露條件和暴露分辨率的基板。此外,PAS 2500/40能夠在曝光和特征大小之間快速切換,從而確保高效的處理和快速的流程周轉。ASML PAS 2500/40還能夠控制暴露劑量，從而確保傳遞到晶圓的暴露劑量是適當和一致的。這樣可以提高曝光過程的準確性,減少返工需求,並提高工具可用性。此外，該機器還包括自動化的數據收集資產和安全的數據存儲，允許用戶訪問晶圓曝光和完整性方面的數據。綜上所述,ASML PAS 2500/40是一種先進的晶圓步進器,它結合了精度和精度來提供高價值的光刻解決方案。它的特點使得它特別適合半導體行業和其他需要精確曝光和調整的行業的制造任務。