二手 ASML PAS 2500 / 40 #9245669 待售

ASML PAS 2500/40是一種先進的晶片步進器設備，用於光刻工藝，如用於微芯片和晶片制造的光掩模生成。該裝置是一種步進重復系統，可提供納米級的曝光精度和均勻的曝光覆蓋範圍。該裝置設計用於快速、精確的光掩模制造和光刻工藝。它可以處理355mm x 455mm的最大基板尺寸，目前的最大覆蓋精度為0.5um。ASML PAS 2500/40配備了氨監控器，用於連續實時監測工藝氣體條件，以優化晶圓生產。該平臺包括高速伺服執行器、12英寸納米精度級、最先進的照明機等多項先進功能。照明工具由安裝在高精度線性級上的半導體激光器組成，可針對均勻、高分辨率和銳利的圖像進行精確調整。PAS 2500/40旨在與多種類型的光掩模和晶片配合使用，包括標準的6英寸和8英寸晶片、最多5層的2D和3D晶片，以及薄矽晶片。該設備可以與廣泛的輸入、過程和輸出光學器件結合使用，包括ArF、KrF和I-Line。PAS 2500/40集成了許多復雜的機器人技術和自動化功能,可幫助提高流程產量並減少轉換和停機時間。這些包括自動卡帶卸載、定位和加載、自動快門控制。還提供了特定於流程的軟件控制。ASML PAS 2500/40能夠在大批量生產環境中處理多個晶圓和光掩碼。通過提供一個堅固可靠的光刻平臺，資產有助於確保晶圓質量的最高水平和產量為各種晶圓制造和光刻應用。