二手 ASML PAS 2500 / 40 #9275932 待售

ASML PAS 2500/40是為滿足半導體制造的先進光刻需求而設計的深層紫外線投影光刻設備。它結合了先進的深層紫外線投影光學器件、圖案生成和對準系統，以及一個基臺，以確保光刻工藝的精確度和準確性。先進的深層紫外線投影光學系統基於晶格和單色儀設計，能夠提供從10：1到1000：1的各種圖像格式、分辨率和放大倍數。光學器件提供了5nm的半場對比度,使設備能夠滿足當前大多數光刻需求和工藝要求。機器的模式生成和對準系統融合了多種模式來源，如精密掩模、裝有光刻膠的槍管和數字微鏡設備（DMD）。它們提供了廣泛的模式類型和可重復性，以及準確性和穩定性。此外,ASML PAS 2500/40還提供了8nm半場對比度範圍內圖像模式所需的精度。該工具還擁有一個精密的基板級，它配備了伺服控制器，以實現更高的精度和可重復性與盡可能最低的抖動誤差。它提供快速、準確和可重復的x、y、θ基板運動，同時保持最佳精度和性能。PAS 2500/40還支持多種高級應用，如雙陣列和缺陷檢測，以及工藝鑒定測試。此外，其用戶友好的界面以及專用的控制和計量包提供了豐富的功能，以便利實施甚至最先進的光刻工藝。總體而言,PAS 2500/40是一種先進的深層紫外線晶片步進器,可為半導體制造中的各種應用提供高度精確的性能。它結合了廣泛的特性和功能，從先進的深層紫外線投影光學資產、模式生成和對準系統，到其先進的基板級和用戶友好界面，確保最復雜的光刻任務能夠快速高效地完成。