二手 ASML PAS 2500 / 40 #9277550 待售
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已售出
ID: 9277550
晶圓大小: 6"
Wafer stepper, 6"
Reticle masking:
(4) Independent blades
Full field of travel
Alignment system:
Dual automatic through-the-lens
Diffraction grating marks
Reticle alignment system
Illumination system:
Elliptical mirror
Fly's eye integrator
Position control:
Three-axis HP laser interferometer system
1988 vintage.
ASML PAS 2500/40是一種先進的半導體光刻工具,非常適合大批量制造和大晶圓加工。它利用先進的掃描技術,包括並行掃描和固定掩模延遲掃描,以確保精確和一致的打印,且邊緣失真最小。2500/40的核心是一個先進的相幹成像設備,具有13.3英寸的方形視野。該成像系統包含兩個線性偏振角度、四個掃描模式和一個用於增強分辨率的象限分割模式。此成像單元可提供兩微米的最大分辨率-非常適合大型模具。ASML PAS 2500/40每6英寸晶圓最多可產生12個檢測點,每秒最多可產生10個點。它還具有自動掃描選項,用於掃描多個視圖和晶圓字段。這保證了高容量晶片的準確檢測和印跡。與早期型號相比,2500/40提供了更好的景深和最快4倍的曝光時間。步進器配有增強電源,提供穩定準確的曝光劑量。兩個先進的樣本跟蹤系統可實現精確的樣本對齊,減少未打印和提高總體產量。此外,2500/40還可以與先進的控制軟件集成,以便於機器管理和處理。在集成維護方面,PAS 2500/40相當人性化。步進器具有一個模塊工具,可以方便地訪問部件和組件。整個資產只需12分鐘即可設置、校準和操作。一整套診斷程序可確保性能穩定性和輸出可靠性。總而言之,PAS 2500/40是一款高性能、高體積的光刻步進器,專為工業制造作業而設計。它配備了廣泛的先進技術,如高分辨率成像模型、自動化的樣本跟蹤系統和先進的電源。2500/40采用直觀的控制軟件,安裝方便快捷,是滿足任何大規模光刻需求的理想解決方案。
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