二手 ASML PAS 5000 / 50 #293620128 待售
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已售出
ID: 293620128
晶圓大小: 6"
優質的: 2005
Stepper, 6"
Chiller
Light source wavelength: 365 nm
Numerical aperture: 0.48
Resolution: 0.5 μm
Depth of focus: 1.2 μm
Maximum exposure area (X / Y): 16 mm / 20 mm
Exposure intensity: 553 mW/cm²
Uniformity of light intensity: 2.45%
Transfer rate: ≥120 mm/s
CD Uniformity (Max-Min): ≤0.10 µm
Stage flatness: -0.1 μm/cm
Engraving precision (X / Y): 88 nm / 62 nm
Engraving method
Mask plate size: 5009
Mask switching time: 32s (with alignment action)
Mask plate cassette: 2-SMIF box
(4) Wafer stages
Exposure platform
Electric cabinet
Transfer unit
PC
Power supply
Projection and expose lens
Focus system
Electronics cabinet:
Lamp power
VME
MIOS1
MIOS2
VRS
HP Rack
Control systems:
Valve
Sensor
Reducer
Wafer handling:
Send unit
Receive unit
per-alignment
levelling device
Dipod
Discharge
Reticle handling:
Library
Per-alignment
Barcode
UV Lighting system:
Lamp housing
Mirror
Lens
Filter
Shutter
Stage movement:
Stator
Linear motor
Laser interferometer and source
Alignment system
2005 vintage.
ASML PAS 5000/50是一種高度精確的自動化晶圓步進器,專為半導體生產中使用的先進光刻工藝而設計。它對電極雕刻過程的靈敏處理和高分辨率成像實現了復雜三維結構矽晶片上極其精確的微觀圖像。ASML PAS 5000/50具有4k先進的成像設備,可實現12納米的精確分辨率。板載光學定位技術以納米精度確定晶圓位置，每次都能獲得準確的結果。它還具有一個綜合的「實時特征」，可以測量不同深度的結構，從而減少光刻過程關鍵階段的叠代次數。PAS 5000/50還具有較高的處理速度以實現高效運行。其先進的算法可以減少多達30%的處理時間，顯著加快整個光刻過程。同時，它的設計是為了保證無論運行時都能保持恒定的精度。PAS 5000/50設計得極穩定，其空氣振動抑制系統消除了空氣流動噪音。另外，它的晶片傳輸裝置被設計成能夠輕柔地處理晶片，從而防止晶片內微妙的元件受到任何壓力。最後，機器的用戶友好控制程序被設計為允許操作員以最小的努力方便地控制設備。總之,ASML PAS 5000/50是一種高效、自動化的晶片步進器,具有先進的成像能力和精確的分辨率。它的高處理速度和穩定的設計允許快速、準確的結果與最小的努力。通過提供極其精確的光刻技術，這種裝置非常適合現代半導體生產。
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