二手 ASML PAS 5000 / 50 #293749240 待售

ASML PAS 5000/50設備是一種先進的半導體生產光刻解決方案。該系統提供無與倫比的性能和生產力,使其成為任何半導體制造商的關鍵設備。ASML PAS 5000/50使用晶圓步進器移動晶圓，並與光掩模精確對齊，讓圖樣轉移到晶圓上。晶圓步進器利用激光定位、雙軸設計、線性電機和編碼器以及運動控制CPU。口罩對齊器具有很寬的工作距離,可容納6英寸（15厘米）的任何尺寸口罩。該單元可提供高達4nm的高分辨率,從而可以對小至45 nm的功能進行成像。掩模對準器也有150 mm x 150 mm的最大晶圓尺寸，可以處理一系列材料的晶圓，包括石英、矽和藍寶石。PAS 5000/50提供了自動對準過程,該過程結合了物理感測和粘光感測,以確保掩模相對於晶片的精確放置。此外,對齊和掃描環確保在每次掃描之前始終對齊掩模和晶片。這使得機器能夠達到高產生產所需的精度和重復性。在生產力方面，PAS 5000/50每小時最高可運行4000個晶圓，吞吐量高達每小時200個晶圓。該工具具有內置的保護功能,可防止晶片受到機械和熱損壞,以及廣泛的曝光時間和固化周期。ASML PAS 5000/50上的用戶友好界面使控制和監視資產變得容易。模型的軟件允許實時統計,包括晶圓吞吐量、對齊精度和吞吐量時間。此外,該軟件還允許跨多個系統共享存儲的數據,並提供高效的配方交換功能。總之，ASML PAS 5000/50由於其高性能和生產率，是半導體生產的絕佳解決方案。其廣泛的功能確保了設備可以處理復雜的任務，而其用戶友好的界面則確保了它可以快速輕松地操作。