二手 ASML PAS 5000 / 50 #9241835 待售
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ID: 9241835
晶圓大小: 6"
Stepper, 6"
Illumination homogeneity:
15.0 x 15.0 mm (%): ≤ 3.0
9.4 x 19.0 mm (%): ≤ 3.0
Illumination intensity (mW/cm²): ≥ 245
Reticle masking (μm): ≤ 500
Lens distortion:
Non-correctable error (nm):
X 15 x 15: ≤ 120 nm
Y 15 x 15: ≤ 120 nm
Mag: <50 nm/cm
Die rotation: < 5 urad
Trapezoidal X: <50 nm/cm²
Trapezoidal Y: <50 nm/cm²
Pre-alignment accuracy (Optical sensor):
X m1 w1 (um): ≤ 7
Y m1 w1 (um): ≤ 7
Y m1 w2 (um): ≤ 7
Stage repeatability:
X [nm]: ≤ 100
Y [nm]: ≤ 100
Single machine overlay (99.7%)
X Max 99.7%: ≤ 150
Y Max 99.7%: ≤ 150
Wafer throughput:
Wafer throughput at 200 mJ/cm²: ≥ 47
Reticle exchange time (seconds): ≤ 40
UDOF: >1.2 um
Intra filed CD: ± 0.05 um @ 0.5 ± 0.025 um mean CD
Target CD reproducibility: 0.5 ± 0.05 um
Overlay:
Box in box: <150 nm
Overlay on product wafer: <150 nm
System stability:
Contamination
(3) Topside particles: 0.5um / Larger.
ASML PAS 5000/50晶圓步進器（Wafer Stepper）是一種用於半導體制造的領先工具。它在高通量生產環境中將高分辨率設備和組件打印到晶片上。具體來說，ASML PAS 5000/50是一種高度精確、具有深紫外線能力的步進和掃描光刻工具，大場尺寸為50毫米，設計用於200毫米或300毫米的大模具尺寸。它具有先進的制圖技術、通過現場測量系統進行的叠加控制以及非接觸式晶圓升降機，以實現流暢、精確的工作流程。PAS 5000/50步進器集成了多種工藝技術，如分段照明以獲得更好的聚焦深度，改進成像和叠加精度的雙光學系統，以及先進的光刻技術，如KrF準分子激光掃描光學以及基於運動鏡的舞臺控制系統。此外，步進器還配備了高精度真空控制系統，以精確控制光掩模對晶片的聚焦。PAS 5000/50具有生產0.15微米設備和組件的能力,具有高度可靠和可重復的特點,具有更高的吞吐量和控制能力。其封裝自訂選項，加上高品質的成像和列印能力，使其成為進階光刻工藝的絕佳選擇。此外,其低的健康維護要求、對各種生產負載的魯棒性以及縮短的周期時間有助於其在各種半導體生產環境中的普及。ASML PAS 5000/50是先進、高性能光刻加工的理想選擇。ASML PAS 5000/50的高精度、精確度和吞吐量,以及眾多的工藝能力,使其成為任何半導體生產環境的絕佳工具。無論您的過程需要陣列或打印高分辨率設備,還是需要高效、準確的叠加控制,PAS 5000/50都不會令人失望。
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