二手 ASML PAS 5000 / 50 #9282384 待售
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已售出
ID: 9282384
晶圓大小: 3"-6"
Stepper, 3"-6"
Reticle, 5"
PEP 2 (Color graphics)
PEP 1/3/4
Chuckspot detection
Wafer Tilt Monitor (WTM)
Alignment Focus Offset (AFO)
Stage Grid Verification (SGC)
Multiple Image per Layer (MIL)
Flexible Mark Position (FMP)
Pre-alignment microscope position, 3".
ASML PAS 5000/50是一種晶圓步進器,旨在實現高級半導體器件的精確平版印刷模式。它提供了多種功能,使其能夠以吞吐量速度創建高質量、高分辨率的模式,這種速度通常比市場上競爭的步進速度快。ASML PAS 5000/50有一個專利光學設計,使用了五微米步長分辨率和遠心光學的組合。這種設計允許非常精確的光刻和非常低的工藝變化,由於一致的步驟精度。步進器還有一個1000瓦的氙燈,可調節以改變曝光光束的能量,以產生精細的細節或更高的吞吐量。這有助於縮短高分辨率流程的曝光時間,從而提高吞吐量。步進器使用緊湊的格式階段,可用於修改曝光圖像的形狀。這允許更大的設計靈活性和更短的曝光時間。它還有助於確保可重復的準確性和高性能曝光。PAS 5000/50具有利用雙視頻檢測系統的自動對準系統。這樣可以快速、準確地對準小曝光區域,從而確保快速曝光時間並減少拒絕。步進器還具有高精度的定位系統,即使在高通量的生產環境中也能提供額外的精度。這有助於減少曝光和運動時間,從而提高吞吐量。該設備還提供了較大的緩沖區大小,可確保高度曝光模式,而不必增加周期時間。緩沖區大小也是可調整的,它允許根據所需的結果提供靈活性和生產率。最後,PAS 5000/50共有五個獨立控制的工藝階段。這種高度可配置的系統在執行復雜的多步驟過程時可實現較高的吞吐量和準確性。綜上所述,ASML PAS 5000/50晶片步進器提供了先進的光學和曝光技術,使用戶在創建模式時具有更高的分辨率、更快的速度和更大的靈活性。這使得ASML PAS 5000/50成為生產半導體制造的頂級晶圓步進器。
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