二手 ASML PAS 5000 / 55 #9068441 待售
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已售出
ID: 9068441
i-Line Stepper
Software version: 3.1.0
Reticle size: 5"
Lens Data:
Wave length: 365nm (i-line)
NA: 0.48
Resolution: 0.50µm
Field Size Diameter: 21.2mm
Max X: 15mm
Max Y: 19mm
Usable Depth of focus: ≥1.2µm at specified resolution of 0.50µm with 10% CD Control and > 83° wall angle
Distortion: 100nm
Currently stored in a cleanroom.
ASML PAS 5000/55晶片步進器是一種先進的光刻設備,用於半導體器件的制造。它是一種精密成像裝置,能夠在半導體晶片上產生具有亞像素精度的圖樣。該機采用專有的Synchroscope對準系統,這是一種獨特的技術,它結合了CCD相機拍攝的多個圖像的對準和掃描電子顯微鏡,可以精確覆蓋多個圖像。PAS 5000/55利用高NA(數值孔徑)投影單元,使機器能夠產生特征尺寸較小的圖案。此外,該工具還具有管理和優化曝光過程的自動化資產,可確保從設計到生產的精確成像。該模型還能夠重叠曝光,從而允許更快的生產時間和更高效的半導體器件生產。ASML PAS 5000/55還融合了多種先進的光刻特性,包括晶圓對準和圖像選擇。該機可配置為使用暗場照明或明場照明,並配有全方位透鏡和光圈面罩。該設備可編程為對晶片進行對準,並包括激光自動對焦系統,以確保精確和精確的成像。該單元可處理多種晶圓尺寸,從2英寸到300毫米,可用於單面和雙面處理。該機器還具有內置的監控機器,包括檢查和計量功能,以及自動標記工具,有助於確保基板和面罩之間的對齊。封裝中還包括一個在線檢查資產,允許快速晶圓校正和模式識別。PAS 5000/55晶圓步進器是一種用於半導體制造的可靠、可靠且先進的光刻模型。它為各種尺寸的設備提供了精確和可重復的光刻結果,並旨在提供高生產率和提高產量。該設備適用於小型和大型生產運行,從原型到大批量制造。
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