二手 ASML PAS 5500 / 100D #9212923 待售
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已售出
ID: 9212923
晶圓大小: 8"
優質的: 1996
Stepper, 8"
Illumination:
Uniformity:
22.0 x 22.0mm [%]: ≤1.5
14.7 x 27.4mm [%]: ≤1.5
Intensity: 900 mw/cm2
Dose repeatability and accuracy [%]: ≤1.0
Dose matching [%]: ≤2.0
Imaging:
UDOF (0.4nm) [um]: ≤1-0
Overlay:
Global overlay: 99.7% of all errors
Day 1 [nm]: X<60, Y<60
Day 2 [nm]: X<60, Y<60
Day 3 [nm]: X<60, Y<60
Stage accuracy [um]: X<15, Y<15
Material handling:
Prealign accuracy X pos [3Σ][um]: ≤8.5
Prealign accuracy Y pos [3Σ][um]: ≤8.5
Prealign accuracy Φ pos [3Σ][urad]: ≤180
Distortion:
Lens distortion [nm]: X ≤ 60, Y ≤ 60
Magnification [ppm]: ≤ 2.0
Die rotation [urad]: ≤ 2.0
Symmetrical [nm/cm2]: X≤ 10
Trapezoidal [mn/cm2]: Y≤ 10
1996 vintage.
ASML PAS 5500/ 100D是為半導體制造而設計的深紫外光刻步進器。步進器能夠在高級節點電子設備上產生小至70納米（nm）的特性。設備有多種定制選項，每小時最多可處理五個晶圓。步進器建在XYZ舞臺平臺上，使用長弧光源將一系列圖案投射到晶圓上。該平臺利用分段晶片軌道提高生產率，允許同時使用多個獨立晶片。計算機控制的光學組件投影出多個彼此對齊的圖像，並轉換成「主」復合圖樣。步進器使用最先進的階段校準系統和保證2級（擴展）資格晶片。實時晶片位置監控（RPM）功能有助於保持使用掃描儀軟件和硬件組件處理項目的一致性和準確性。步進器還具有集成操作單元Eclipse OS,可實現最佳性能和用戶控制。機器具有廣泛的特性和靈活性，可以針對特定的應用進行量身定制。這包括用於劑量管理、基於圖像的計量、過程優化和自動晶圓處理的軟件。還可以為本地和遠程數據監測、分析和跟蹤編寫程序。ASML PAS 5500/100D是為滿足先進工藝光刻的要求而設計的.其小巧的尺寸、卓越的性能和可定制的選項使其成為許多芯片生產和高級半導體工藝的理想選擇。它結合了精度、穩定性和經濟性，是許多鑄造和芯片設計應用的完美工具。
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