二手 ASML PAS 5500 / 100D #9228177 待售
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已售出
ID: 9228177
晶圓大小: 8"
優質的: 1996
Stepper, 8"
Illumination:
Uniformity:
22.0 x 22.0mm [%]: ≤1.5
14.7 x 27.4mm [%]: ≤1.5
Intensity: 900 mw/cm2
Dose repeatability & accuracy [%]: ≤1.0
Dose matching [%]: ≤2.0
Imaging:
UDOF (0.4nm) [um]: ≤1-0
Overlay:
Global overlay: 99.7% (All errors)
Day 1 [nm]: X<60, Y<60
Day 2 [nm]: X<60, Y<60
Day 3 [nm]: X<60, Y<60
Stage accuracy [um]: X<15, Y<15
Material handling:
Prealign accuracy X pos [3Σ][um]: ≤8.5
Prealign accuracy Y pos [3Σ][um]: ≤8.5
Prealign accuracy Φ pos [3Σ][urad]: ≤180
Distortion:
Lens distortion [nm]: X ≤ 60, Y ≤ 60
Magnification [ppm]: ≤ 2.0
Die rotation [urad]: ≤ 2.0
Symmetrical [nm/cm2]: X≤ 10
Trapezoidal [mn/cm2]: Y≤ 10
1996 vintage.
ASML PAS 5500/ 100D是當今市場上最先進、最可靠的光刻應用晶片步進器之一。此步進器能夠在所有功能大小範圍內提供世界一流的流程性能。ASML PAS 5500/100D采用模塊化設計,可實現最大的靈活性和可升級性。它采用先進的光學設備,專為高端精確對準和曝光而設計。該系統設計用於曝光光的振幅和相位調制，提供出色的空間分辨率和最高動態範圍。PAS 5500/100 D還具有全自動對齊器和叠加平臺,在此過程中提供快速實時叠加測量和驗證。此平臺允許用戶監視和控制整個晶圓的完整掩碼處理。改進的直線電動機和驅動器可實現平滑、準確和可重復的運動。步進器還包括提供準確控制和安全過程的高級控制、監控和診斷功能。步進器還附有一個高精度的配準和對準單元，它包含了一組雙4軸線性電動機和一個編碼器。這臺機器是為在曝光過程中非常準確和穩定的配準和對準而設計的。步進器還具有晶片清洗檢驗、晶片基板和框架對準、晶片基板和框架驗證、晶片基板識別、晶片殘余邊緣識別等多種先進晶片處理技術。PAS 5500/100D還配備了先進的安全系統，旨在確保人員安全和晶圓處理。步進器包括防火工具和氣溶膠釋放資產，必要時可以停止處理步驟。步進器還被設計用來防止可能損壞模型的敏感光學元件或影響晶圓過程的環境條件。步進器還保證了晶體結構和非晶態結構的最大性能。PAS 5500/ 100D是任何需要精確可靠操作的光刻應用的理想選擇。
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