二手 ASML PAS 5500 / 1100 #293668650 待售
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已售出
ID: 293668650
晶圓大小: 8"
ArF Scanner, 8"
Wavelength: 193 nm
Wafer type: Notch
SMIF
Illumination source: Laser
CYMER NL-7600 Laser
IRIS Reticle
ATHENA Alignment system
Narrow alignment mark
Reticle blue align
Focus system: Enhanced 8
(24) Character barcodes
Grid mapper
QUASAR illumination
PEP Image screening
AUX Port wafers
Beam delivery system
Stand alone workstation
ESI Air filtration
Cabling
Does not include Hard Disk Drive (HDD).
ASML PAS 5500/1100是一種晶圓步進器設備,用於晶圓上集成電路的制造。步進系統由對準顯微鏡、投影光學器件和高級步進模塊(ASM)組成。對準顯微鏡是一種專門的光學顯微鏡,具有精確對準光掩模和晶圓的高分辨率能力。投影光學器件提供高分辨率的光掩模成像到晶片允許非常精確的對準特征的光刻過程。ASM負責精細控制同時保持光掩模和晶圓的級的運動,以便在晶圓上創建所需的模式。ASML PAS 5500/1100設計允許靈活布局多達12個不同的工藝模塊,ASM、顯微鏡和投影光學模塊之間共享。步進單元可以在步進和掃描操作中操作,在掃描模式下,機器利用雙列配置來分離掃描和對準功能。該工具有一個XY級,允許步進頭移動,精確定位光掩模和晶圓相對於彼此。ASM為XY平面中高度精確的運動和焦點調整提供閉環控制,以滿足各種晶片的光刻要求。資產設計為每個模塊都有一個獨立的閉環控制,從而允許在生產過程中對每個模塊進行高度精確的設置和最大限度的穩定。步進器的視野很大,可以支持晶圓上的大量模式,晶圓級設計為低kV且無振動,以支持先進的工藝。PAS 5500/1100提供出色的性能、準確性和可靠性。該模型具有可編程的步長,在X和Y範圍內可提高到6,000 μ m,並提供+/-1.5 μ m的曝光精度。它還提供高質量的成像,具有39nm的分辨率、高效的操作和更好的循環時間。除了這些功能外,晶片步進器設備還具有強大的集成傳感器網絡,包括溫度、相對濕度和振動傳感器,以及各種攝像頭系統,可幫助監測環境並保持最佳循環溫度和濕度。在平版印刷過程中,系統會隨時進行監控,從而實現連續的工藝優化。最後,PAS 5500/1100為工程師提供了高級自動化和控制工具,以優化其流程並達到最高質量標準。
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