二手 ASML PAS 5500 / 125E #9188743 待售

ASML PAS 5500/ 125E是由光刻工具和服務領域的領導者ASML開發的「第六代」高端商用步驟和掃描設備。該系統集成了兩方面最好的技術-先進的第6代步進技術,具有卓越的成像性能、光刻控制和精確對準功能,以及前幾代產品的PAS （PAS 5500/ 125E掃描模塊,可實現高吞吐量和準確性。ASML PAS 5500/ 125E具有氟化KrF準分子激光器，能夠產生直徑達85毫米（mm）的光弧和248納米（nm）的波長。這種激光器產生精細準直的光束，能夠照亮大面積，使其非常適合需要精度和精確度的應用，例如生產微芯片。該設備采用了最先進的第6代技術，包括先進的劑量映射（DMA）和先進的抗蝕劑控制（RCA），這對於控制光刻膠的暴露劑量以及管理光掩模中的分辨率和對比度至關重要。此外，新的第6代機器采用軟件控制的激光對準系統和顯示器的組合，改進了模內對準。這些高級功能提高了生產效率和精度。此外，PAS 5500/ 125E利用ASML先進的「螺旋掃描」技術將圖像從打印的掩碼轉移到半導體晶圓上。在這個過程中，設備照亮了晶圓上的一個「空間頻率」點的螺旋，形成了一個地形圖，設備可以不斷地重新調整。這樣可以確保成像在整個掃描過程中無失真,從而在整個半導體晶片中實現統一的分辨率。ASML PAS 5500/ 125E還具有自動對焦工具,該工具不斷跟蹤晶圓的位置,有助於保持統一、清晰的成像。此外,資產還包括一個環境同步機制,可確保模型腔室中的溫度和濕度一致。這有助於延長設備的整體使用壽命,並保持一致的輸出。綜上所述,PAS 5500/ 125E是一個高端商用步進系統,配備了最先進的第6代步進技術和ASML PAS 5500/ 125E掃描模塊。它通過劑量映射、阻抗控制、模內對準、螺旋掃描、自動對焦和環境同步機制等先進功能提供了高的成像精度和準確性。