二手 ASML PAS 5500 / 200 #9095592 待售

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ID: 9095592
晶圓大小: 8"
Stepper, 8" Scan speed: 320 mm/sec Reticle size: 6" Chuck: Pin chuck Wafer: Flat zone Flow: Right Computer: SPARC-5 ASML Software version 8.7.0 with Y2K completion (2) WL Ports Lens type: (80) Max NA: 0.6 BMU: Standard Power supply Temperature control Electronic control: WS lamp Reticle changer Wafer changer ASML 200 lens data FEM UL: 0.02 UR: -0.08 C: 0 LL: 0 LR: 0 IQC Focus: 65.85 Pressure: 967 Dose Respectability: 0.08 % Accuracy: 0.05 % Sum: 0.13 % Uniformity Percentage: 4.27 Tilt X: -0.04 Tilt Y: -0.66 Distortion Max DX: 34 nm Max DY: 68 nm NCE X: 36 nm NEC Y: 37 nm Currently de-installed.
ASML PAS 5500/200是一種高端晶圓步進器,將大視野與先進的成像和像素級對準精度相結合。此步進器提供高分辨率成像和增強的工藝性能,非常適合半導體制造應用。ASML PAS 5500/200的總視場為43毫米,提供了全方位的基板成像。步進器的最大分辨率為5.6微米,高精度線寬分辨率為1.5微米。此外,PAS5500/200還通過Edge Overlap提供了具有21 nm精度的高級像素級對準精度。這允許精確打印具有最大進程重復性的關鍵圖案層。步進器具有多種特性和控件,非常適合精細的半導體制造工藝。PAS 5500/200具有Y軸掃描功能,可掃描小陣列,確保陣列制作過程中特征大小和位置的最大精度。步進器還具有可變劑量模式,用於精確、不均勻的劑量分布,減少總暴露劑量和能耗。步進器采用耐用的空氣軸承框架和掃描儀頭,可提供最大的系統穩定性,並帶有對稱設計,以最大限度地提高運動精度。ASML PAS5500/200還包括一臺功能強大的主機,可提供強大的應用程序控制、對各種用戶界面的支持以及對光學系統參數的手動控制。總體而言,PAS 5500/200晶圓步進器是用於精密半導體制造應用的高級高端成像和對準解決方案。憑借其高質量的成像能力、增強的工藝性能和集成的控制系統,用戶可以享受高效準確的性能。
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