二手 ASML PAS 5500 / 300 #9211288 待售
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ASML PAS 5500/300是用於半導體制造中光刻的晶圓步進器。它是為超大批量生產而設計的步進掃描工具,具有完全自動化的晶圓處理設備,提供一致且可重復的曝光功能。該工具能夠處理多達300毫米的矽片,非常適合生產復雜的片上系統(SoC)設計。ASML PAS 5500/300配備了一系列專利技術,包括全場光學、激光幹涉光刻、雙通光學。全場光學單元具有五個25毫米凹陷透鏡,提供0.65 NA從掩模到晶圓的最佳成像。激光幹涉光刻(LIL)將二維正弦波形與傳統照明相結合,創造出高分辨率的二進制特征,最小Linewidth@CD為35納米。最後,雙通道光學器件在整個25 mm視場中可獲得0.25 μ m的分辨率。PAS 5500/300還具有雙級Galvano掃描儀,能夠以最小的失真在整個300 mm上掃描晶片。Galvano掃描儀的最大掃描速度為30,000線/秒,最大速度為0.5 m/s,提供高吞吐量和快速循環時間。另外,晶片級具有保證精確位置精度的雙致動器和減輕環境幹擾的減振機。PAS 5500/300具有全自動晶片處理工具,提供晶片在舞臺上的精確放置以及處理器前後之間的輕松傳輸。前置裝載機提供低位錯處理,平均晶圓到晶圓變化最小,從而創建一致的曝光配置文件。該室還設有一個大氣控制器,為一系列負載和工藝條件提供一致的壓力和溫度。總體而言,ASML PAS 5500/300晶圓步進器是一種具有創新技術的先進工具,可提供超高量生產和一致、可重復的曝光。全場光學、LIL、雙通光學、快速掃描和自動晶圓處理的結合使得該工具非常適合生產高分辨率、低Linewidth@CD功能低至35納米的復雜SoC設計。
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