二手 ASML PAS 5500 / 300B #100797 待售
看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。
已售出
ID: 100797
Stepper, 8"
Config Item Value
Cassette (elevator) position Cassette position 1 and 2
Wafer Track Interface TEL Mark 5/7/8/ACT8
SECS I and II Interface Yes
SECS Job Creator Yes
Batch streaming Advanced RMS
E-Chuck Analysis Standard
Image quality control Standard
Tape streamer OCU-MK4 or less Yes
Single Reticle Smif Handling Yes
SignALL Yes
IRIS-6 Inch Reticles Yes
PEP1 Standard
PEP2 Standard
Reticle Error Compensation Standard
Focal Standard
Extended NA-range Yes
Aerial Standard
Intensity 2 Yes
Quasar Yes (DOE ID13 MP4 30 included)
Extended Exposure Yes
Focus Spot Monitor Yes
PEP300B = /300B to /300C upgr Yes
IOST Yes
Valid ATP-document 12NC 4022.502.42301
Hertz 60 Hertz
Power 220 Volt
Signal Tower Remote
Software release 5500 SW rel. 6.2.2
SPM Alignment Yes
Optical Prealign (Mark Sensor) Standard
Wafer size 200 mm
Wafer type Flat
Language indication KOR
CSR's for PAS5500 general Focus monitoring
Focus Spot Monitor Yes
Extended Exposure Yes
Factory release Sw rel. 6.2.0
AB matching Yes
Reticle size 6"
Super clean package Yes
XPA alignment Standard
Optical Prealign (Mark Sensor) Standard
LSQ disto modelling Standard
CSR's for PAS5500/300 old vari CSR 1089 ( T97-DUV-02-100 )
CSR's for PAS5500/300 old vari CSR 1191 ( T97-DUV-02-93 )
CSR's for PAS5500/300 old vari CSR 1192 ( T97-DUV-02-94 )
CSR's for PAS5500/300 old vari CSR 1194 ( T97-DUV-02-96 )
1997 vintage.
ASML PAS 5500/ 300B晶片步進器是一種用於半導體制造的關鍵器件。作為光刻工藝的一部分，晶片步進器被用來投射圖樣到晶片上，允許以某種方式蝕刻、處理或操縱目標區域。PAS 5500/ 300B是光學對齊的，包含一個照明器、投影光學器件、對準光學器件、支撐和運動系統、照明設備和真空系統。照明器是投射光源，包含多個燈、燈插座、快門驅動器和快門鏡頭。發光器還可提供保護,防止部件受到機械反沖或熱沖擊。視曝光狀態而定,將選擇所需的曝光。投影光學器件是負責創建投影到晶圓上的圖像的設備，包括物鏡、冷凝器透鏡、成像透鏡和光學濾鏡。物鏡將光聚焦到晶片上，冷凝器透鏡將光聚焦到成像透鏡上。成像透鏡然後成形投影圖像，光學濾鏡用來選擇用於特定曝光的光的波長。對準光學器件處理過程中晶片的處理和移動。對準光學器件控制曝光過程的啟動和停止，並保持晶片與成像透鏡的對準。支撐和運動單元提供晶圓和投影光學器件之間的對準。原來的覆蓋精度，這是把曝光模式在晶圓上準確和正確對準的過程，保持與支撐和運動機器。該工具包括許多部件，如，一個視場測量模塊，一個運動舞臺，一個焦點控制器，一個激光幹涉儀，和一個計算機接口。照明資產是負責模型所有電氣部件的電源，包括數字照明控制模塊、遠程功率控制模塊、功率放大器、數字放大器控制器和放大器。真空設備負責容納晶片的基板腔以及其他組件。它在過程中保持壓力，負責在晶片暴露時保持其清潔。它還有助於防止汙染物進入室內，並防止氧化在暴露過程中發生。總體而言,ASML PAS 5500/ 300B是一種非常重要的半導體制造設備。利用其照明器、投影光學器件、對準光學器件、支撐與運動系統、照明單元、真空機的組合，可以準確精確地創建用於操縱和塑造半導體芯片的圖像。
還沒有評論