二手 ASML PAS 5500 / 300B #293817865 待售
網址複製成功!
ID: 293817865
Stepper
Numerical Aperture (NA): 0.40-0.57
Resolution: 250 nm
Throughput (WPH): 80.
ASML PAS 5500/ 300B是用於先進半導體器件加工的300毫米高性能晶圓步進器。該設備提供超高吞吐量和高級陣列性能,最大分辨率為0.1微米。PAS 5500/ 300B是一種先進的光學步驟和重復光刻系統。它基於KrF、ArF和ArF-plus準分子激光器,允許廣泛的光刻工藝能力。利用獲得專利的PAS300系列高級工藝能力(SPC)技術,該設備能夠對最復雜的圖樣進行成像。它還為工業提供了無與倫比的覆蓋和聚焦精度,使其非常適合生產最新的納米級設備。這臺機器垂直集成,包括激光、照明器、物鏡、晶圓座和原位掃描儀兩個精密級。ASML PAS 5500/ 300B能夠對包括光敏樹脂、GaAs和ZnS在內的多種不同材料進行制圖。它提供0.1微米的業界領先的光學分辨率,最小特征尺寸為0.4微米。這允許極其精確的蝕刻和圖案。作為一個高級工具,PAS 5500/ 300B配備了幾個專門的功能。其中包括幹涉監測資產、晶圓定心調節器和場內邊緣放置優化技術。通過這些設計,該模型能夠以最小的線寬變化實現令人難以置信的高模式保真度。此設備專為超高吞吐量而設計。ASML PAS 5500/ 300B具有4透鏡系統的分裝能力,可同時處理8個晶片。它還具有靈活的作業處理序列和運行時間臨界光刻任務的選項。PAS 5500/ 300B具有用戶友好的界面,可提供準確性和速度,並為用戶提供低成本。該單元可支持各種工藝友好型晶片,從3英寸到8英寸,非常適合先進的光掩模應用。該機具有優異的設計性能和強大的設計性能,是半導體器件加工的理想解決方案。
還沒有評論