二手 ASML PAS 5500 / 300C #9309192 待售

ASML 5500/300C晶片步進器是一種緊湊且經濟高效的曝光設備，設計用於生產用於制造半導體的光掩模。步進器具有直觀和用戶友好的圖形界面,使用戶能夠輕松調整設置,以實現晶圓的完美對齊和曝光。ASML 5500/300C采用雙滴激光輔助步進結構，為每一層創建兩個重叠的曝光模式。這有助於確保晶片被曝光的準確定位,並創建更小、更均勻的特征大小。該系統還具有一個獲得專利的「激光輔助散焦」（LAD）單元，使機器能夠精確調整激光束的焦點，以匹配晶圓的表面，以獲得最佳的對準和曝光。ASML 5500/300C步進器配備了大視場（118 x 97毫米）和特殊的大面積分束器，使工具能夠快速掃描大面積晶圓，以渲染高分辨率圖像和特征。這有助於顯著縮短周期時間，提高整體暴露質量。除了其曝光能力外，ASML 5500/300C晶圓步進器還集成了功能齊全的過程控制資產。該模型允許設備在曝光過程中自動監控晶片的位置，確保可重復的對準和曝光參數。該系統還具有集成缺陷檢測單元（DDS）,使機器能夠在曝光過程中檢測和糾正模式中的缺陷。最後，ASML 5500/300C晶片步進器與廣泛的鏡頭選項兼容，包括遠心鏡頭、縮放鏡頭和移位鏡頭，這有助於確保高達0.3微米的精確度。這有助於以盡可能高的分辨率創建光掩模,使用戶能夠在其模式中獲得最精細的細節,並使其能夠生產出盡可能最好的半導體零件。綜上所述,ASML 5500/300C晶片步進器是一種復雜而直觀的曝光工具,可為用戶提供高水平的曝光精度和控制。該資產的多種功能幫助用戶以最小的工作量快速呈現高分辨率模式,並且由於其先進的過程控制和缺陷檢測系統,該模型確保了最大的產量和質量。