二手 ASML PAS 5500 / 400B #293817860 待售

ASML PAS 5500 / 400B
ID: 293817860
i-Line stepper Numerical Aperture (NA): 0.65 Resolution: 280 nm DCO:  45 Throughput (WPH): 104.
ASML PAS 5500/ 400B是一種用於半導體光刻的浸入式步進器。它是在集成電路芯片上可靠地產生高精度模式的理想選擇。這臺最先進的機器先進的光學和機械技術使其成為亞微米和納米級產品的理想選擇。PAS 5500/ 400B提供高性能、掃描式步進器和空氣軸承級。該掃描儀具有高精度伺服環控制和增強型HeNe激光自動準直儀幹涉儀。該機還提供先進的圖像評估程序,高精度,和優越的對齊。它具有高吞吐量、快速的空間寬度(側壁角)生成能力,並且在層狀陣列應用中具有良好的對比度。ASML PAS 5500/ 400B的曝光程序範圍從原型制作的長時間曝光運行所需的程序到高產產量和最大吞吐量所需的短曝光時間的程序。它還能夠處理直徑達8英寸的晶片尺寸,並且可以處理小至5微米的模具尺寸。該機器在所有現場尺寸上均提供統一、精確的曝光性能。這種晶平光學器件可在所有磁場尺寸上提供卓越的聚焦深度,而自動對焦系統可在曝光期間優化聚焦條件。PAS 5500/ 400B專為高精度和深度聚焦而設計,用於高度復雜的集成電路模式。它是生產VLSI和內存芯片以及生物醫學底物的理想選擇。此外,它是翻轉芯片應用的理想選擇,也適用於無掩碼細線圖案。這臺機器提供了最大的準確性和可重復性,確保了在多個晶圓運行中的精確模式。其緊湊的設計也使振動最小化,同時允許較高的吞吐量速率。用於矢量數據輸入和叠加校準的外圍控制器在處理過程中提供了靈活的操作。總之,ASML PAS 5500/ 400B是一種可靠可靠的晶圓步進器,為集成電路的高精度陣列設計提供了卓越的性能。高精度掃描、優越的圖樣均勻性、靈活的操作使其成為高精度光刻生產工藝的理想選擇。
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