二手 ASML PAS 5500 / 400C #9049031 待售
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已售出
ID: 9049031
優質的: 1993
i-Line Stepper, 8"
Process: i-line 4x
Uniformity: 1.0
Software: UNIX
Basic configuration:
SMIF
SECE I/II
6" Reticle
Wafer OF type: flat zone
Inline flow right
Software:
Main computer: ULTRA-10
Software version v8.9.0
Y2K completion
WL&RL:
WL port numbers 1 and 2
Lens and illumination:
Lens type: 40
Max NA: 0.65
BMU type: Standard
Apperture annular: 0.85/0.55
Laser: lamp
Stage: 250mm/sec, pin chuck
Packing list:
Main
Power supply device
Air pressure control
S&T temp control electronic control
OCU
Reticle change
Wafer changer
1993 vintage.
ASML PAS 5500/ 400C晶片步進器是一種在半導體制造業中廣泛使用的先進微光刻機。它允許精確制造逐層打印到晶片上的集成電路。該設備利用安裝在運動控制旋轉平臺上的光學組件,在晶圓表面上精確成像圖樣。成像系統由激光步進/掃描儀組成,其光學組件包含投影透鏡、光束冷凝器和光源。它還包括一個先進的紅外成像傳感器,聚焦和對準目標,以及一個標線級。晶片步進器能夠將一層又一層的光刻膠成像到晶片上,分辨率為250 nm。光學組件安裝座允許一系列的標線,從基本的1倍減小到擴展視場(FOV)的4倍減小。此外,該裝置還配備了先進的對準和調平機,可提供高達4nm的位置精度和0.2 mrad的傾斜精度。光學元件可以在XYZ方向定位和控制,最大速度為1.2 m/s。晶圓步進器能夠自動檢測和自我校正環境因素,如振動和溫度波動。它利用先進的閉環熱控制工具來維持一個均勻的溫度。所有這些都提供了保證高產設備制造所需的精度。此外,ASML PAS 5500/400 C利用高端計算機對資產進行控制和監測,並實施預測模型和質量控制指標。此外,PAS 5500/ 400C配備了一個高精度級,用於晶圓和標線的自動交換。該模型還包括一個特殊的安全單元,以防止與光學組件意外接觸。晶片步進器能夠處理各種材料和基材,從光掩模和光學到石英晶片和薄膜。它可以進行曝光、蝕刻、清洗、塗層等多種操作。總體而言,PAS 5500/400 C晶圓步進器是一種先進的微光刻設備,為半導體行業提供高精度成像和圖樣處理能力。它配備了先進的成像光學器件、計算機控制的定位和熱控制系統以及晶片到標線的交換單元。這些功能使設備能夠識別、補償和校正環境變化,同時以高精度和可重復性進行必要的處理。
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