二手 ASML PAS 5500 / 400D #9207081 待售
看起來這件物品已經賣了。檢查下面的類似產品或與我們聯系,我們經驗豐富的團隊將為您找到它。
單擊可縮放
已售出
ID: 9207081
優質的: 2004
Step and scan system, 8"
Imaging performance:
Resist: Ultrai 123
Through focus:
Dense lines: 25 nm
Specification: ≤35 nm
Isolated lines: 20 nm
Specification: ≤50 nm
Best focus:
Dense lines: 15 nm
Specification: ≤25 nm
Isolated lines: 13nm
Specification: ≤25 nm
Main body
OCU
IL Bottom module
C&T Cabinet
Arms
WTS
Cover set
Electronic cabinet
Wafer stage
Airco unit
R-Chuck box 1
Accessory box 1
Accessory box 2
Accessory box 3
Accessory box 4
SECS / GEM: Yes
2004 vintage.
ASML PAS 5500/ 400D是一種晶圓步進器，用於將圖樣傳遞到半導體基板表面。它是一種高度精確的機器，能夠產生支持各種先進半導體技術發展的復雜模式。通過使用紫外線（UV）光源、最先進的光學器件以及精確的對準，步進器能夠快速地將施加在晶片上的光敏層暴露在結構極小的陣列上。ASML PAS的光學元件5500/400D包含一個變焦透鏡、拼盤鏡和兩個折面鏡，所有這些都被用於基板的照明和成像。鏡頭由兩個調節打印光束成像角度的鏡子和一個用於控制成像鏡頭位置的檢流計設備組成。拼盤鏡面用於沿x軸和y軸掃描基板,以獲得所需的圖像分辨率。最後，這兩個折疊反射鏡有助於將成像光束對準和聚焦到光致抗蝕劑層上。步進器還配備了動態線路發生器（DLG），用於以納米精度將成像光束精確對準晶圓。通過使用DLG的二維矩陣，根據晶圓的運動不斷調整光束位置。這確保了成像過程在每次曝光時都是準確和可重復的。除了光學外，PAS 5500/400 D還配備了多項先進的控制和安全功能。這包括一個高度先進的預測控制系統，該系統不斷調整光學成像角度，以確保圖像與每次曝光保持一致。此外,步進器還具有強大的真空裝置,可保持基板與拼盤的粘附,從而使過程在極其清潔的環境中進行。PAS 5500/ 400D是一種最先進的晶圓步進器,能夠在每次曝光時產生精確的模式。其卓越的光學器件、先進的DLG和預測控制機器確保每次曝光時的成像過程都是準確和可重復的。此外,其強大的真空工具允許在極其清潔的環境中進行該過程。這使得ASML PAS 5500/400 D對於那些在生產過程中要求最高精度和準確性的半導體行業的人來說是一個有價值的工具。
還沒有評論