二手 ASML PAS 5500 / 400D #9269681 待售

ASML PAS 5500/ 400D是半導體工業中用於光刻曝光的晶圓步進器。它是一種復雜的成像設備，使用各種精密透鏡和執行器系統將圖樣投射到塗層晶片的表面上。該工具采用了新的創新，包括半自動鏡頭和晶圓級系統。該系統可以處理最小足跡為6-7nm的裸露基板進行生產。ASML PAS 5500/400D使用KrF （Krypton Fluoride）準分子激光器，由於其優越的光學特性而產生最佳的清晰度。這種激光器產生248納米紫外線，用來將掩模的圖樣傳遞到晶圓上。為了保持掩模對準的準確性和工藝可重復性，其獲得專利的致動鏡面掃描裝置提供了激光沿X軸和Y軸的精確對準。這將創建跨晶片的精確掃描。PAS 5500/400 D具有創新的晶圓級，允許機器使用振動抑制和高級運動控制算法的組合。此晶片級工具具有防夾緊保護、最佳跟蹤和自動聚焦資產,在掃描過程中具有很高的精度。此高級模型可確保晶片在整個掃描過程中保持正方形和居中。該工具還具有二進制光學器件,用於隔離散射在掩模上的光。其高容量基板支架能夠處理12英寸晶片，並為光刻塗層提供自動化的解決方案。為了提供最高的影像解析度，並能夠更廣泛的曝光水平，該工具還配備了高性能的物鏡設備。這種可調系統可以降低焦點深度，同時提高叠加精度。該單元還利用了由一對專利振蕩器提供動力的精密激光束偏轉機，允許水平覆蓋在0.50微米精度以內。最後,PAS 5500/400D通過提供實時工具狀態信息的高級診斷工具,為最大正常運行時間和生產量設計。這使操作員能夠輕松評估刀具性能並保持對過程窗口的完全控制。該資產還利用高速數據采集模型，減少負載時間，增加模式吞吐量。該設備提供無與倫比的可重復性和吞吐量,以實現卓越的生產。