二手 ASML PAS 5500 / 550D #9191419 待售
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已售出
ID: 9191419
優質的: 2000
DUV Scanner
Illumination board
Temperature cabinet: Controller
OCU: ULTRA-10 Including two hard disk
Electronics cabinet
Wafer transport system (wafer handling)
Air control cabinet
Laser & beam expander: CYMER ELS-6600 laser ( 2KHz ), 2000
ARMS:
(2) Grippers
IRIS: No
Reticle stage: Inside box
ACC Cabinet: Charcoal filter
Exposure unit check :
Visual check bottom lens
Top lens
No cystalization
Integrated slit uniformity:
(11) Scans in 26mm
Setting 1: 0.78
Illumination intensity:
(11) Scans in 26mm
Setting 1: 886
Dose repeatability and accuracy:
Dose repeatability: 0.3
Dose accuracy: 0.52
Image plane deviation: 178
Astigmatism: 76
Image distortion:
Non-correctable error: 11.5 / 8.8
Focus and leveling:
Focus repeatability (3 Sigma) : 0.01
Slit axis tilt repeatability (3 Sigma) : 0.37
Scan axis tilt repeatability: 0.39
Overlay performance:
Stage repeatability: 4.4 / 4.5
Single machine overlay using TTL alignment: 11.5 / 13.1
Athena alignment: X=11.5/Y=12.1
Wafer throughput:
8" Wafers: (46) Exposures
16 x 32 mm, 30 mJ/cm2
TTL [wafers/hour]: 117.8
Athena [wafers/hour]: 115.8
RBA [wafers/hour]: -
Intensity [mW/cm2]: 1240
Reticle exchange time:
Flash to flash reticle exchange time (s): 18.45
Image quality control:
3σ image sensor measurements focus repeatability [nm]: 23.37
Slit axis tilt repeatability [urad]: 5.79
Scan axis tilt repeatability [urad]: 1.17
Translation repeatability [nm]: 5.77
Magnification repeatability [ppm]: 0.29
Marker rotation repeatability [urad]: 0.26
Samos: 2.4
Straylight rema o/c (%): 1.11
2000 vintage.
ASML PAS 5500是用於制造超小型半導體器件的晶圓步進器。該設備采用掃描激光系統，依次照亮矽片表面。每一個暴露於激光器的區域被分成一系列的曝光區域，然後以無掩碼直接的方法印在晶片上。PAS 5500具有現代化的成像單元，包括第一面衍射光柵、光學成像機和雙波長激光源。該工具的激光波長範圍為530-570 nm，光斑大小為1 μ m。晶片級支持200 mm的最大基材尺寸以及6英寸的晶片與透鏡的分離。步進器還提供高精度的步驟和重復定位,可重復性為+/-1 um。其高分辨率允許創建超精細特征和結構,最小線寬範圍為0.1至1.0微米,間距精度小於0.5微米。它還具有先進的對齊功能,對齊精度為30nm。PAS 5500具有高功率光源,可在500 nm時提供10 kW的最大功率,最大資產強度為1.3 J/cm2。該型號的最大吞吐量為每小時600個晶圓，最大曝光面積為4 x 5微米。其先進的批量曝光功能允許使用大字段和多級曝光的不間斷陣列作業。設備具有自動對齊邏輯,可實時執行自動模式搜索和對齊校正。它還提供基於晶圓地形的AutoFocus功能,以達到最佳焦點。PAS 5500是一種通用的晶圓步進器，適用於光刻和納米印刷。為超小型半導體器件的制造提供了高產率、高分辨率的成像。該系統是需要快速、可靠且節能的步進解決方案來滿足生產需求的制造商的理想選擇。
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