二手 ASML PAS 5500 / 60 #293817857 待售

ASML PAS 5500/60是用於生產半導體晶圓的先進光刻工具。它是一種浸入式光刻設備，利用水比空氣折射率大的優勢，在相同的數值孔徑光束下提高分辨率。ASML PAS 5500/60系統具有先進的集成分級和控制單元,旨在提高精度和吞吐量,從而實現半導體行業所需的可靠和有效的高精度光刻技術。PAS 5500/60對於70 nm技術節點能夠以0.35微米的分辨率生產晶片，對於90 nm節點能夠以0.5微米的分辨率生產晶片。PAS 5500/60包括一個可變功率激光光源，使各種強度和波長（359nm-451nm）能夠解釋半導體工藝中使用的各種材料。光線作為「像素」特征圖案的一部分聚焦到晶片表面較小的斑點尺寸（<1 μ m）。該機器同時支持環形和離軸照明類型,允許它用於生成陣列體系結構的選擇。ASML PAS 5500/60晶片步進器還具有集成的數字控制器,可精確驅動晶片卡盤,從而為每次曝光提供高度精確和可重復的定位。卡盤設計為最多同時支撐四個板，允許多層場通過單次移動暴露。次要階段以精確、受控的方式迅速暴露其余領域。該工具還具有自動對齊功能，允許使用CCD攝像頭在多層之間精確可讀的對齊。該控制工具可精確控制曝光和其他設置,並可用於脫離卡盤位移感測,以精確測量場大小和位置。各種軟件都支持該資產，包括但不限於仿真器、自動對焦軟件和降噪軟件。此外，ASML提供多種與ASML PAS 5500/60相關的服務。這包括預防性維護間隔、實時監控和診斷、遠程支持和評估服務、校準服務、模型升級和軟件擴展以及深入培訓。PAS 5500/60是一種先進的光刻工具，能夠以高達0.35微米的分辨率生產晶片。它配備了精確驅動晶片卡盤的數字控制器，為每次曝光提供精確、可重復的定位。它還配備了支持多種照明類型的可變功率激光光源、集成對準設備和各種軟件支持。這種特性和服務的結合使得PAS 5500/60成為半導體生產的理想工具。