二手 ASML PAS 5500 / 700B #293779167 待售
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ID: 293779167
晶圓大小: 8"
優質的: 1999
DUV Stepper, 8"
CIM: SECS
SMIF Interface
Wafer transfer unit handler system
C&T Cabinet
Operator console unit
Integral slit uniformity:
Annular: ≤ 1.2
Conventional: ≤ 1.2
Illumination intensity:
Annular: 2400
Conventional: 2400
X and Y Moving standard deviation: ≤ 30 nm
X and Y Moving average: ≤ 15 nm
Dose repeatability and accuracy:
Dose repeatability: ≤ 0.7%
Dose accuracy: ≤ 2.0%
SAMOS: ≤ 5.5
Image plane deviation: ≤ 175
Astigmatism: ≤ 125
Best focus (Dynamic): 0±35 nm
Image sensor measurements:
Focus repeatability: ≤ 30 nm
(Rx) Scan axis tilt repeatability: ≤ 6.0 μrad
(Ry) Scan axis tilt repeatability: ≤ 2.0 μrad
Translation repeatability: ≤ 10 nm
Magnification repeatability: ≤ 1.0 ppm
Die rotation repeatability: ≤ 1.0 μrad
1999 vintage.
ASML PAS 5500/ 700B是用於光刻的最先進的晶圓步進器。它是一種具有指揮核心的掃描設備，具有精確、連續移動和長期穩定的特點。其主要應用是在半導體器件的制造中，將預膨脹晶片轉移到步進器上，利用光刻曝光實現精確對準。步進器是一個全自動的計算機控制成像系統。它包含了一個高精度的金屬框架，稱為晶圓級，既有X軸也有Y軸運動。該級由電動機驅動，能夠以0.5到4.0微米的間隔移動。它還具有以0.1微米大小步長的精度測量其位置的能力。它的線性編碼器提供了對舞臺運動的可重復控制。晶片級容納直徑最大10英寸的晶片，最大厚度為45mm。步進器可以容納厚度範圍在7µm至5mm以內的晶片。除了支持具有不同平坦度水平的晶片外,步進器還包含一個能夠檢測形狀誤差和校正曝光圖像的校準單元。PAS 5500/ 700B配備了大功率光源和一系列高分辨率鏡頭。它提供了一系列的曝光，包括線路/空間和接觸曝光，以及高縱橫比和復雜的形狀掩蔽。此外，其先進的光學裝置和鏡面機還可以微調光刻劑的焦點和景深。步進器還配備了高性能圖像分析工具。它能夠檢測圖像中的缺陷和不符合度到0.25 µm的水平。這使得幾乎完美的晶片沒有排便.ASML PAS 5500/ 700B的可靠、可靠和可重新配置的設計允許快速、高分辨率的步進操作,最大運行速度為每秒35次曝光。此外,步進器還具有廣泛的粒度,從全場暴露到部分場暴露,在生產應用中提供了更大的靈活性。PAS 5500/ 700B是一種功能強大且用途廣泛的晶圓步進器,可提供可靠、高分辨率的性能。是生產優質半導體器件的合適工具。其先進的光學、成像資產和自動化操作可實現高效、精確的光刻。
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