二手 ASML PAS 5500 / 750 #9194126 待售
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單擊可縮放
已售出
ID: 9194126
晶圓大小: 8"
優質的: 2000
DUV Scanner, 8"
248 nm
SCR Rack:
Current amplifier CPU board TCS3x mater
TC3X Current amplifier
(6) Boards / +5 V PSU /+24 V PSU
AAR Rack:
Power supply boards
CPU
Optical & analog demodulators boards
CSU Rack
RRR Rack
WHR Rack
LPR Rack
WPR Rack: PSDC 48 V
MSR Rack:
Power supplies 5 V & 7 V/LS
AL Hinds controllers
RMR Rack:
Velocity drive digital
Sensor board
Z Sensor analog & digital boards
IL Rack:
Illumination interface board
PID 2,4,5 Boards
Power amplifier board
Level master board
PTI Board
ARMS Rack:
Library card 1
Remote reset
CPU
Wafer handling module:
Gripper unit
Pre-alignment unit
Discharge unit
Input pedestal
Dipod unit
Switch clamp valve
Reticle handling module:
(3) Libraries
Upper & lower robot
Illumination module:
Doe exchanger
ACL Board
BMU
Beam stearing
LSI Board
AIR Mount module:
(3) Servo valves Tc3x block
Geophones
Pre amp boards on AM
WS Module:
(2) Air bearings
Short-long stroke decoupling block
Air bearing controllers
HP Receivers
Flax cable fiber optics
Alignment module:
TTL Laser
OA Red & green laser
Power supply red & green laser
OA CCD CAM
Temperature conditioning module:
C&T Unit & controller
Exhaust fan
ACC Fan & controller
CYMER Laser 61433
Laser 1A8B
Tool model: ELS-6600
LNM
WCM
MCS Board
TCS Board
Exhaust vacuum sensor
Missing parts:
Computer system:
Sun station assembled ultra 10
CRT Monitor
Mouse trackball
2000 vintage.
ASML PAS 5500/750是一種先進的模擬光刻工具，被半導體制造商用來在矽片等材料表面產生復雜的圖樣。該設備是一個完整的半導體晶片步進解決方案,其吞吐量、精度和精度遠遠優於競爭對手的解決方案。該系統具有集成的雙軸（XY）子字段對齊器單元、子字段像差校正機和用於傳輸光束的可變點掃描儀。Subfield Aligner工具允許在晶片上精確對齊所需的陣列,而不管晶粒大小或任何其他不規則性。此資產的最高精度為+/-200 nm絕對步進微推精度。經過Subfield Aligner模型後，晶圓經過Subfield像差校正設備，自動校正晶圓處理和寫入階段引入的像差。該系統還能夠補償晶圓材料引起的大部分光刻失真。最後，晶片通過變點掃描儀，利用先進的電氣聚焦控制參數優化算法，為各類晶片提供無與倫比的光束傳遞精度。該單元還采用了雙束噴射技術，以幫助實現最佳曝光時間和強度性能。此外，這臺機器能夠每小時進行5500次曝光，同時在運行過程中保持非常節能和安靜。最重要的是,PAS 5500/750在設計上是模塊化的,這意味著它可以通過最新的組件和功能來適應任何生產需求。此外,該工具與大多數流行的軟件平臺兼容,並且具有很高的可配置性,使其適用於高端生產設置以及成本較低的實驗室。總體而言,ASML PAS 5500/750是一種多功能的晶圓步進解決方案,能夠在各種材料表面上產生非常精確的圖樣。其強大的組件和功能使其成為最先進的模擬光刻工具之一,提供無與倫比的吞吐量、精度、準確性和能效。
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