二手 ASML PAS 5500 / 750D #293811828 待售
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單擊可縮放
ID: 293811828
晶圓大小: 8'
Deep Ultraviolet (DUV) scanner, 8"
CYMER ELS 6600 Laser
Wafer transfer system
Operator console unit
CIM: SECS
SMIF
Illumination intensity: up to ~2954 (exceeding the standard ~2400 specification in conventional mode)
Overlay performance: approximately 50 nm (e.g., GM Tx ~0.0512 µm)
Dose repeatability: approximately 0.11%, below the ≤0.7% specification threshold
2002 vintage.
ASML PAS 5500/ 750D是一種精密的晶圓步進機，專為大體積半導體制造而設計。這項先進的技術在集成電路的生產中至關重要，使得半導體晶片能夠精確制圖，並具有微米級精度。PAS 5500/ 750D以其出色的性能、可靠性和靈活性而聞名,使其成為全球領先半導體公司的熱門選擇。ASML PAS 5500/ 750D的核心是其最先進的投影鏡頭設備。這種透鏡系統在半導體晶片上成型和聚焦用於曝光光刻膠的光方面起著關鍵作用。PAS 5500/ 750D的投影透鏡單元具有較高的數值光圈和較大的視野,可實現整個晶圓表面的高分辨率和均勻性。ASML PAS 5500/ 750D具有動態對齊機,可確保半導體器件不同層之間的精確叠加。此對準工具使用高級傳感器和算法來監視和校正曝光過程中晶圓位置、旋轉和縮放的任何偏差。通過保持緊密的叠加控制，PAS 5500/ 750D能夠制造出具有亞微米對準精度的復雜多層器件。ASML PAS 5500/ 750D的主要優勢之一是靈活性和可擴展性。此晶片步進機可配置不同的投影光學元件、光源和舞臺選項,以滿足特定的客戶要求。無論是生產邏輯設備、內存芯片還是圖像傳感器，PAS 5500/ 750D都可以量身定制，以適應廣泛的半導體應用。ASML PAS 5500/ 750D包含高級軟件算法,用於實時優化曝光參數和監控資產性能。這些軟件控制使用戶能夠在半導體生產中實現最佳工藝效果、最大限度地減少停機時間和最大限度地提高產量。此外，PAS 5500/ 750D還配備了先進的成像和計量工具，用於表征晶圓上的關鍵尺寸和模式。在吞吐量方面,ASML PAS 5500/ 750D提供高速曝光功能以支持大批量制造操作。采用先進的級控制和晶片處理系統，這種晶片步進機在保持嚴密過程控制的同時，可實現快速循環時間。這種速度和精度的結合使得PAS 5500/ 750D成為大規模生產半導體器件的理想解決方案。總體而言,ASML PAS 5500/ 750D代表了晶圓步進技術的頂峰,它結合了最先進的光學、對準系統、軟件控制和吞吐量功能。PAS 5500/ 750D憑借其在半導體行業的良好記錄，繼續為晶圓光刻系統設定標準，使半導體制造商能夠推動器件小型化和性能的界限。
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